Occasion VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730 #196006 à vendre en France

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VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-730
Vendu
ID: 196006
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1999
CVD sputtering system, 8" SMIF Type: LPT 2200 Software version V5.2bl(B2.3.2) Vacuum pump included (2) chambers 1999 vintage.
Le système de pulvérisation de VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 est un outil polyvalent utilisé pour le dépôt de couches minces. Cet outil fournit à l'utilisateur une variété de techniques de dépôt telles que la pulvérisation magnétron DC, la pulvérisation magnétron RF et la pulvérisation DC/RF combinée à un bombardement ionique. TEL MB2-730 dispose de modules de processus indépendants et d'une chambre de processus capable de traiter un substrat complet de taille 10 ". La chambre est équipée d'un maximum de 4 capacités cibles chacune avec leurs propres alimentations électriques indépendantes. Dans les procédés de pulvérisation à magnétron continu, une alimentation en courant continu est utilisée pour générer un champ électrique entre le substrat et la cible. Ceci est appliqué pour initier le processus de pulvérisation d'un matériau substrat sur le matériau de base. La pulvérisation magnétron continue permet de contrôler la vitesse de dépôt et l'uniformité en ajustant le courant et la tension pour chaque cible. La pulvérisation magnétron RF utilise une alimentation RF pour générer un champ électrique entre la cible et le substrat. Ce procédé est généralement utilisé pour pulvériser du matériau sous des formes telles que des lignes, des tranchées et des polygones. De plus, cela peut également être utilisé pour déposer des matériaux difficiles à pulvériser. VARIAN MB2-730 est également capable de combiner les modes DC et RF en un seul processus. En utilisant ce procédé, on peut déposer des matériaux avec un taux de dépôt élevé tout en obtenant une couche de film uniforme avec une largeur de 20µm et une hauteur de 1µm. De plus, la combinaison DC/RF avec le bombardement ionique permet à l'outil d'obtenir des temps de processus plus rapides avec un film de haute qualité. TOKYO ELECTRON MB2-730 dispose également d'une procédure de nettoyage in situ. Le processus de nettoyage automatisé utilise du gaz argon pour nettoyer la chambre et refroidir la cible. Pour le contrôle de la température, MB2-730 utilise une chambre secondaire refroidie à l'eau. Ceci refroidit la cible pour éviter les effets de recuit, et donc le dispositif est capable de déposer des matériaux avec une faible inter-diffusion et une excellente adhérence. VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-730 est un outil facile à utiliser qui est idéal pour les applications à petite et grande échelle. Sa grande convivialité et son fonctionnement fiable lui permettent d'obtenir des résultats de haute qualité de manière efficace. Avec sa polyvalence et sa flexibilité, TEL MB2-730 est l'un des outils les plus populaires dans l'industrie du dépôt et de la fixation de couches minces.
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