Occasion ASML PAS 2500 / 40 #9027711 à vendre en France

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ASML PAS 2500 / 40
Vendu
Fabricant
ASML
Modèle
PAS 2500 / 40
ID: 9027711
Wafer stepper.
ASML PAS 2500/40 est un pas de plaquette qui est généralement utilisé dans le procédé de fabrication de semi-conducteurs. Il s'agit d'un équipement avancé et répété et fait partie du portefeuille de production de masques ASML Photomask et Reticle (P&R). Cet outil a été conçu pour permettre une productivité et un rendement élevés dans la production de masques ainsi que pour aider les sites de fabrication à répondre à la demande de plus petites tailles de dispositifs et de cycles plus rapides. L'ASML PAS 2500/40 utilise quatre systèmes optiques, un étage de masque double face, une capacité d'imagerie en champ noir et un générateur de motifs afin de fournir la précision et le débit requis. Le pas de plaquette double face de la plate-forme est conçu pour supporter les plates-formes de 4 et 8 pouces, permettant aux utilisateurs de traiter facilement même les masques les plus complexes. Le système est capable de faire un tableau de 1 million de motifs, et offre des résolutions de 50nm. PAS 2500/40 est livré avec des fonctionnalités avancées, y compris une unité d'inspection de masque, des étages de substrat ultra-haute précision et une gamme d'outils logiciels sophistiqués. Il dispose également d'une machine d'éclairage innovante qui est conçue pour améliorer l'uniformité de l'éclairage, en fournissant une profondeur de focalisation accrue et en améliorant les rendements. L'outil offre également des vitesses de balayage rapides, avec un maximum de 25 plaquettes par heure. PAS 2500/40 est un outil fiable, avec un taux de défaut très faible, et est capable de créer des masques de haute qualité avec des bavures minimales et aucune distorsion. Il s'agit d'une solution respectueuse de l'environnement et est approuvé par RoHS, réduisant considérablement son empreinte environnementale. Ce pas de plaquette offre un processus de production de bout en bout efficace, du chargement du masque au déchargement du substrat, offrant aux utilisateurs un temps de disponibilité maximum et des coûts d'exploitation réduits. De plus, son logiciel intuitif permet aux utilisateurs de mettre en place et de surveiller rapidement leur processus, tandis que le flux de travail intégré contribue à augmenter l'efficacité de la production et à accélérer le déroulement des projets. Dans l'ensemble, l'ASML PAS 2500/40 offre une solution à guichet unique pour la production de masques et est un outil essentiel pour les fabricants de semi-conducteurs. Il est conçu pour augmenter les rendements, réduire les coûts et améliorer l'efficacité et la qualité de la fabrication.
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