Occasion NIKON NSR 1505 i6 #9068876 à vendre en France

NIKON NSR 1505 i6
Fabricant
NIKON
Modèle
NSR 1505 i6
ID: 9068876
Taille de la plaquette: 3"-5"
i-line steppers, 3"-5" Reticle: 5".
NIKON NSR 1505 i6 est un pas de plaquettes de 4 pouces conçu pour la lithographie de plaquettes de haute précision. Cet équipement de pointe combine une optique de pointe NIKON, un procédé de classe mondiale et des mouvements très stables pour offrir la plus grande précision et efficacité de production. Le système est conçu pour traiter des photomasques sur des semi-conducteurs, des MEMS ou d'autres technologies de pointe. Il utilise la technologie de numérisation de ligne « i » (parenthèse d'index) brevetée NIKON, qui offre une meilleure qualité d'image avec de faibles erreurs de reconnaissance de motifs et moins de défauts de masque. L'unité de lithographie NSR 1505 i6 utilise une précision de niveau pas à pas. La machine intègre un contrôleur de mouvement à six axes de haute précision. Ce contrôleur de mouvement dispose d'un mécanisme de balayage à deux étages, asservi pour fournir un mouvement fluide et précis de la photomasque en tout temps. L'outil dispose également d'un étage de plaquette de haute précision, qui assure un placement précis des plaquettes pendant la lithographie. L'étage de la plaquette présente une surface antidérapante qui permet une grande homogénéité au niveau des bords de la plaquette. En outre, l'actif est équipé du modèle « étage flottant » breveté NIKON, qui permet à l'étage de se déplacer indépendamment du chariot optique. Cela permet à l'équipement de maintenir une focalisation constante pendant le chargement du masque. NIKON NSR 1505 i6 dispose également d'un ensemble puissant d'options logicielles. Ceux-ci comprennent l'optimisation autofocus et autofocus, la gestion de programme, et la sélection de fenêtre autofocus. En outre, il offre une large gamme de paramètres de commande de travail pour une vitesse maximale et la fiabilité. Dans l'ensemble, NSR 1505 i6 wafer stepper est une machine puissante et fiable capable de traiter des photomasques complexes avec la plus grande précision et efficacité de production. Le système dispose d'un contrôle de mouvement avancé, une excellente qualité d'image, un étage de plaquette de haute précision, et les meilleures fonctionnalités logicielles. C'est une unité très avancée qui convient à une large gamme d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs.
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