Occasion NIKON NSR 1755 i7A #293655188 à vendre en France

NIKON NSR 1755 i7A est un pas de plaquette avancé capable de fixer des couches de fabrication sur des plaquettes semi-conductrices avec des résolutions de niveau sub-micron. En tant que l'un des paliers les plus avancés de NIKON iSeries, il est idéal pour traiter les plaquettes nodales avancées, y compris les noeuds avancés tels que 5 nm et plus. NIKON NSR 1755I7A est construit avec une technologie de marquage direct à cathode froide à faible vibration (CCDM) qui permet la stabilité d'imagerie et la précision de motif nécessaire pour le marquage de niveau sous-micron. La combinaison de l'imagerie CCDM et de l'unité d'étage 7 axes fournit une précision inégalée d'alignement substrat-substrat de moins de 1,0 micron. Avec un équipement embarqué de surveillance en boucle fermée en temps réel, l'alignement des plaquettes peut être suivi et ajusté en continu pour maintenir une précision extrêmement élevée pendant le traitement. NSR-1755I7A a un champ de vision de 25mm x 25mm et un débit total de plus de 250 plaquettes par heure. Il est intégré à un module électro-optique haute performance (EOM), qui dispose d'un système de longueur d'onde améliorée pour améliorer la qualité et le débit de l'imagerie. L'EOM dispose d'une unité optique avancée et d'une capacité de balayage laser Ultra-Violet et ArF pour l'imagerie de motifs compliqués dans des plaquettes d'une gamme de noeuds avancés. NIKON NSR-1755 I 7 A est conçu avec un design robuste et fiable et dispose d'une disposition ergonomique pour un fonctionnement/entretien facile. Il est également équipé de capacités environnementales avancées, y compris un environnement de salle blanche Classe 1000 et une machine d'éclairage multi-longueurs d'onde. Cette fonctionnalité lui permet de traiter des appareils haut de gamme avec un minimum de bruit et de contamination par les particules. NSR 1755 i7A offre la plate-forme idéale pour la fixation de plaquettes nodales avancées, tout en assurant le plus haut niveau de précision et de fiabilité possible. Sa capacité à modeler des motifs compliqués dans des procédés avancés tels que 5 nm et en dessous, en fait l'outil idéal pour les opérations de fabrication de semi-conducteurs d'aujourd'hui.