Occasion NIKON NSR 2205 i10C #9100801 à vendre en France

NIKON NSR 2205 i10C est un pas de plaquette très avancé et compact. Ce pas de plaquette est conçu pour un alignement efficace et précis dans la production photolithographique de microprocesseurs semi-conducteurs. Il dispose d'un équipement optique entièrement fermé, d'un système d'entraînement à couple élevé et de vitesses de balayage rapides, qui le rendent très efficace dans sa tâche désignée. NIKON NSR-2205I10C est équipé d'un alignement bidimensionnel pour un alignement précis. Cela comprend un capteur d'image qui capture une image du masque, un étage de distorsion dans le plan bas avec une haute résolution pour le nivellement et une faible irrégularité aux vitesses de balayage les plus élevées, et une précision d'entrée élevée qui assure une rotation de segment lisse et précise. Le plan focal cristallin fournit un large champ de vision et une profondeur de focalisation supérieure pour correspondre à l'environnement de lithographie, protégeant le motif fragile de la plaquette pendant le balayage. La NSR 2205 i10C utilise une unité d'entraînement à couple élevé pour aligner la plaquette avec une vitesse et une précision élevées. Ceci est fourni par une combinaison de deux types de moteurs : Brushless Direct Coupled Motors (BDM) et Slitless Stepper Motors (SSM). Le BDM offre une résolution de position élevée et un mouvement lisse avec de faibles vibrations, tandis que le SSM fournit une vitesse élevée et un contrôle de position ininterrompu. Grâce à la combinaison de ces deux moteurs, NSR-2205I10C assure l'alignement précis de la plaquette même à des vitesses de balayage élevées. Le NIKON NSR 2205 i10C dispose également d'une machine d'alignement laser à micro-étages et points volants. Ceci améliore la précision de l'alignement en permettant le réglage fin de la position de la plaquette. Cet outil est capable de détecter et corriger rapidement tout désalignement, assurant ainsi un processus lithographique réussi. NIKON NSR-2205I10C est conçu pour fournir un moyen sûr et rentable d'aligner et de positionner les plaquettes dans la production photolithographique. Cet actif est conçu pour atteindre une précision d'alignement allant jusqu'à 0,3 µm, et grâce à sa conception efficace et à ses capacités d'alignement précises, il est capable de supporter une augmentation du débit dans des environnements de production complexes.