Occasion NIKON NSR 2205 i12C #9379646 à vendre en France
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ID: 9379646
i-Line stepper, 6"
Chamber temperature: 23°C
Chamber type: S16
NA Variable system
Reticle, 6"
Fixed reticle microscope
Maximum field: 22 mm
Reticle loader: Standard, 13-Slots
Reticle case: Standard, 6"
Pre alignment-2
Wafer loader: Type II
Chip leveling
Wafer carrier table: Left, right
Alignment sensor: LSA, FIA
Body-OP Ruck cable: 3 m
Rack type: Right
Lamp power: 2000 W
SHRINC Type 3 Illumination
Wafer holder flatness: ≤2.5 μm / 200 mm
Field inclination: Within 0.35 μm
Leveling setting accuracy: Within ±1.5 sec
Lens distortion: ≤±0.50 µm
Reticle blind setting accuracy: 0. 4mm - 0.8mm
Exposure power: ≥700 mW/cm²
Illumination uniformity: ≤±1.5%
Integrated exposure dose control: ≤±1.0%
Array orthogonality: Within ±0.1 sec
Reticle rotation: |M|+3σ ≤20 nm
Stepping accuracy: 3σ ≤45 nm
No wafer edge exposure
No signal tower
No PPD
No reticle barcode reader
No extend R-library
No In-line
Overlay:
LSA: |M|+3σ ≤75 nm
FIA: |M|+3σ ≤75 nm
Accuracy: ±55 nm
Wafer pre-alignment repeatability:
X, Y, θ: 3σ ≤ 15 μm
Y-θ: 3σ ≤ 20 μm
Resolution: 0.45 μm
Magnification: 5:1
Depth of focus: 2.00 μm
Exposure wavelength: 365 nm
1997 vintage.
Le NIKON NSR 2205 i12C est un pas de plaquette offrant une précision de mesure de quelques microns et des temps d'exposition rapides. Il a une taille de champ d'exposition maximale de 12 pouces (305 mm) et un diamètre de plaquette maximum de 8 pouces (200 mm). Son optique a une ouverture numérique (NA) de 0,63, permettant une résolution jusqu'à 0,2 μ m. La source de lumière UV avancée, équipée d'un obturateur iris, offre une énergie d'exposition sélectionnable par l'utilisateur avec une précision ± 0,5 % en incréments de 0,5 mJ jusqu'à 13 mJ/cm ². NIKON NSR-2205I12C est conçu pour répondre à diverses exigences des utilisateurs en leur permettant de choisir parmi une gamme de pilotes de logiciels de processus, y compris les conditions développées et vérifiées pour tous les matériaux de résistance majeurs. Les recettes de processus nécessaires à l'exposition peuvent être gérées à l'aide d'une interface utilisateur graphique intuitive. De plus, des outils d'inspection faciles à utiliser permettent aux utilisateurs d'inspecter et de surveiller les expositions cousues et les expositions de surface avec des mesures de hauteur, largeur et iso-ou-résistance intégrées hors axe automatisées par l'équipement (MAPS). Son système d'étages en plaquettes offre des coutures multi-champs très précises et des vibrations d'étages réduites lors de l'exposition. En outre, sa conception simple permet un accès facile et consommable, ce qui rend la maintenance et le changement des composants une brise. Cette unité dispose également d'une machine automatisée d'alignement de plaquettes pour haut débit. Dans l'ensemble, NSR 2205 i12C wafer stepper est un stepper avancé qui permet aux utilisateurs d'atteindre facilement et rapidement la précision de calcul des sous-microns. Il offre une façon performante et intuitive de gérer les recettes de processus, un entretien facile et un outil automatisé d'alignement des plaquettes. D'autres caractéristiques telles que la source de lumière UV avancée et l'amplificateur d'obturateur iris rendent cet atout adapté aux applications de lithographie les plus exigeantes.
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