Occasion NIKON NSR SF120 #9207084 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9207084
Stepper, 12"
Front In-line FOUP / ACT12
(6) Reticles, 0.25"
Variable reticle microscope
Main body:
Magnification: 1/4 Reduction
i-Line light-source, 365 nm
Resolution: 0.28um
NA Variable lens: 0.50 - 0.62
Exposure: 25 mm x 33 mm
3-Axis (5) PIEZO Lens adjust
PC System hardware:
Type: DS10
UPS System
Alignment sensor:
LSA
FIA
AIS
No LIA
Interferometer system:
Wafer stage
Reticle stage
Mercury ARC lamp: 5.0 kW
Multi focus system
Table leveling system (VCM)
Wafer loader:
Type III
Wafer type: Notch
Front In-line FOUP + ACT12
Single wafer cassette
Wafer pre-align type: NC PRE2
Reticle loader:
SMIF Type (OHT)
(2) Indexes
Barcode reader
PPD3 Particle checker
Control rack:
Type: Normal (Right)
Cable length: Normal
Chamber:
S52 Sendai chamber
CVCF NEMA (1,2)
BATC / CATC / LLTC: 23.0°
PM Data:
Wafer Flatness:
Maximum: 1.270 um
L.F Maximum: 0.790 um
Lamp:
Power: 1497.932 mw/cm²
Uniformity: 2.359%
Lens distortion:
Maximum X: -0.012 - 0.013um
Maximum Y: -0.017 ~ 0.016um
Lens inclination:
Maximum: 0.060 um
Curvature: 0.023 um
AST(V-H): 0.051 um
UR-LL: 0.012 um
UL-LR: 0.021
Illumination system:
ID1(L-NA/I-NA): ConV 0.52/0.36
ID2(L-NA/I-NA): ANN 0.62/0.5
ID3(L-NA/I-NA): ConV 0.62/0.43
ID4(L-NA/I-NA): ConV 0.62/0.36
Power supply: 208 V, 3-Phase, 60 Hz
2003 vintage.
NIKON NSR SF120 est un équipement d'alignement de wafer et de masque de haute précision qui dispose de la technologie « Resonant Scanned Stepper » (RSS) propriétaire de NIKON. Il est capable d'atteindre des débits élevés et des précisions élevées pour une gamme d'applications pas à pas exigeantes. Il convient au traitement du masque et de la plaquette. Le système utilise un étage à 6 axes à grande vitesse pour obtenir une résolution de positionnement de 1 nm. L'étage a une accélération maximale de 30 m/s2, permettant des temps de cycle plus courts avec moins de trames retouchées. Le pas de tranche est capable d'exposition et d'alignement de large gamme de photomasques. Il a une source lumineuse d'alignement sans contact avec 9 longueurs d'onde (y compris i-line, g-line et u-line) pour fournir des alignements de haute précision pour les plaquettes et les photomasques. L'unité dispose également d'un algorithme d'alignement programmable pour améliorer encore la précision. En outre, l'alignement et la répétabilité de l'enregistrement à haute précision (1,5 sigma) sont assurés par l'introduction du marqueur d'enregistrement bidimensionnel propriétaire. NIKON NSR-SF120 est conçu avec une interface utilisateur intuitive et des outils optimisés de génération de recettes pour réduire le temps de configuration. La fonction de correction d'axe optique propriétaire NIKON est utilisée pour maintenir la verticalité de l'axe optique (verticalité sur axe) pour de nombreuses applications. Le pas de plaquette est équipé de plusieurs options pour la vitesse et la précision. Il utilise un automate breveté pour détecter les matières résiduelles. Les auto-capteurs par défaut peuvent détecter n'importe quel objet de 0,1 microns jusqu'à 10mm de dimension. La machine propose également un mode de recherche d'enregistrement pour enregistrer la plaquette et le masque rapidement et avec précision. Le NSR SF 120 est également conçu avec un ensemble complet de fonctions de sécurité. Il dispose d'un outil de protection in situ pour protéger l'utilisateur contre l'exposition à des substances dangereuses. Il dispose également d'un moniteur de position absolue qui peut détecter rapidement les problèmes si tout changement est détecté à l'état de l'actif. NSR-SF120 est un pas de wafer entièrement de haute précision qui répond aux exigences élevées des applications de niveau de production. Sa capacité et ses technologies de pointe lui permettent de fournir des précisions et des débits d'alignement exceptionnels. Il offre une solution économique pour les applications qui nécessitent un alignement et un enregistrement de wafers et de photomasques de haute précision.
Il n'y a pas encore de critiques