Occasion NIKON NSR SF200 #293636238 à vendre en France

NIKON NSR SF200
Fabricant
NIKON
Modèle
NSR SF200
ID: 293636238
Taille de la plaquette: 6"-8"
i-Line stepper, 6"-8".
NIKON NSR SF200 est un pas de plaquette de haute précision multi-étages de pointe utilisé dans le processus de micro-lithographie de l'industrie de fabrication de semi-conducteurs. Il est conçu avec évolutivité en tête et fournit un contrôle d'exposition extrêmement précis pour l'alignement des motifs et le développement. Avec une taille de filière allant jusqu'à 12 pouces et une taille maximale de plaquette de 200 mm, NIKON NSR SF 200 est capable de manipuler une large gamme de substrats et d'applications, ce qui en fait un choix optimal pour une production à haut volume. NSR SF200 intègre une conception en quatre étapes pour plus de précision et de débit, et est équipé d'un système combiné de vision et d'éclairage pour améliorer le contrôle et l'alignement de l'exposition. Ce système utilise deux axes d'ajustement pour une gestion optimale de l'exposition et fournit un alignement et un enregistrement précis des profils de recouvrement et de transfert. D'autres caractéristiques incluent le chargement automatique de plaquettes, l'alignement automatique de niveau zéro et l'autofocus de passage. Le NSR SF 200 possède également une résolution graduée de 0,5 µm, ce qui permet de placer des motifs extrêmement précis sur des substrats de toutes tailles. Cette fonctionnalité est encore améliorée par une résolution d'image allant jusqu'à 0,12 mm, permettant aux utilisateurs d'atteindre des niveaux plus élevés de précision et de répétabilité. NIKON NSR SF200 est également adapté pour les procédés avancés de film sec et résistant. Il est capable de traiter des matériaux avec des niveaux d'énergie d'exposition allant de 145 à 312nm, permettant aux utilisateurs d'ajuster automatiquement l'éclairage d'exposition en fonction de leur choix d'exposition et de résister aux matériaux. En outre, le NIKON NSR SF 200 offre également des options d'immersion liquide et d'exposition double côté, ce qui en fait un choix idéal pour répondre aux exigences les plus exigeantes en matière de développement et de production de semi-conducteurs. Pour assurer un fonctionnement fiable, NSR SF200 dispose de composants logiciels et matériels robustes, tous fonctionnant sur la famille NIKON de plates-formes de lithographie. Cela comprend l'amélioration de l'extraction et de la protection des composants critiques, les dernières technologies de masquage et d'éclairage, et une large gamme d'options d'interface conviviales. Dans l'ensemble, NSR SF 200 est un outil très efficace et fiable pour produire certains des circuits intégrés et substrats les plus fiables et les plus précisément produits dans la fabrication de semi-conducteurs. Avec son ensemble complet de fonctionnalités et ses composants haut de gamme, NIKON NSR SF200 est le choix idéal pour les besoins spécifiques des paliers de plaquettes.
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