Occasion NIKON NSR SF200 #9220471 à vendre en France

Fabricant
NIKON
Modèle
NSR SF200
ID: 9220471
Taille de la plaquette: 6"
KrF Stepper, 6" Resolution: 150 nm Handedness: Inline left or right Altitude: Varies by site Chamber type: Standard Variable numerical aperture: Maximum 0.63 sPURE RET Apertures iNA: 0.50, 0.38, 0.24, 0.19, 0.12, 0.38 Quick reticle change (QRC) Reticle size: 6" Field image alignment system (FIA) Laser step alignment system (LSA) Phase contrast FIA TTLFC2 Pre-alignment 2 Wafer stage: Air bearing / Linear motors Ceramic wafer holder Wafer loader Chip leveling included Multipoint focus/level NIKON SECS II GEM Interface GIGAPHOTON KrF Excimer laser source Options: Resolution enhancement technology (RET) Reticle barcode reader Extended wafer carrier table Pellicle particle detector 2003-2004 vintage.
NIKON NSR SF200 est un équipement pas à pas de plaquettes haut de gamme, conçu pour la production de semi-conducteurs, MEMS et MOEMS. Il offre des capacités optiques variées et un large champ de vision, ce qui le rend idéal pour des processus de lithographie complexes. Le NIKON NSR SF 200 est équipé d'une lentille de projection de réduction de type scanner et d'un capteur d'alignement ultra haute résolution. La lentille de projection de réduction de type scanner utilisant la conception optique exclusive NIKON, délivre des ouvertures numériques (NA) de 0,55 à 0,75, fournissant une haute résolution 2580 dpi avec un générateur de champ électromagnétique de 5 μ m (FEG). Cela permet une excellente uniformité d'image et résolution sur les plaquettes, même lorsque vous travaillez avec des structures très complexes. Le système est également équipé de NIKON Double Mobile Proximity Stage (DMPS) et d'algorithme d'inspection des défauts, qui permettent un alignement très précis des plaquettes et des masques de lithographie. La technologie DMPS élimine les problèmes de couture entre les niveaux de plaquettes et de masques, offrant des processus de lithographie très précis. De plus, l'algorithme d'inspection des défauts permet de scanner les plaquettes pendant la production de lithographie, de surveiller les irrégularités et les défauts pour aider à l'étanchéité des défauts. NSR SF200 dispose d'une unité de contrôle de processus propriétaire NIKON, offrant un fonctionnement convivial, un suivi avancé des informations de processus et un débogage en temps réel. La machine de contrôle de processus optimise les modèles, les paramètres d'exposition, les délais de tournage et les points focaux, assurant les meilleurs résultats de lithographie. De plus, le NSR SF 200 est équipé d'un outil de refroidissement à air, offrant un fonctionnement stable et une uniformité thermique améliorée. Il fournit également le logiciel Smart Recipe Master, qui permet aux utilisateurs de créer et de stocker leurs propres recettes, ainsi que de partager des recettes avec d'autres utilisateurs. En conclusion, NIKON NSR SF200 est un outil robuste, polyvalent et convivial, conçu pour répondre aux besoins des capacités modernes de fabrication de semi-conducteurs, avec une multitude de fonctionnalités optiques et de contrôle de processus.
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