Occasion DAINIPPON MP-2000 #190876 à vendre en France

DAINIPPON MP-2000 est un équipement de photorésistance utilisé dans le processus de photolithographie lors de la création de dispositifs semi-conducteurs. Le système facilite la filtration sélective de la lumière dans le processus de photolithographie, permettant d'exposer à la lumière les zones souhaitées d'une conception de masquage et de les transférer sur la plaquette. Ce procédé est utilisé pour créer une surface modelée sur la plaquette, utilisée ultérieurement pour la gravure et d'autres traitements. MP-2000 unité utilise une combinaison d'un miroir en aluminium très réfléchissant et de photorésist négatif ou positif pour réfléchir la lumière hors de la plaquette avec une longueur d'onde constante dans toute la zone. Ceci permet aux zones choisies de la plaquette d'éprouver une réflectance tandis que le reste de la surface reste non protégé. Le motif de masquage est imprimé sur la résine photosensible, puis il est exposé aux champs d'incidence de la lumière. Les zones conçues sont exposées à la lumière et guéries, tandis que les zones extérieures au masque sont protégées de la lumière. Ce processus est répété sur l'ensemble de la plaquette avec tous les motifs de masquage nécessaires. Le miroir en aluminium de la machine DAINIPPON MP-2000 est très réfléchissant et durable. C'est un matériau très résistif qui est capable de fournir un éclairage rapide au sein du procédé. Cela réduit également la quantité d'énergie utilisée, réduisant ainsi la quantité de puissance nécessaire pour faire fonctionner l'outil. Le miroir contribue également à fournir un environnement régulé de manière cohérente au sein de l'actif photorésist. MP-2000 modèle utilise également une photorésist négative ou positive pour permettre aux zones souhaitées d'être exposées à la lumière, tandis que le reste de la plaquette est protégé. La résine photosensible est un matériau liquide qui peut être combiné avec un milieu approprié (tel qu'un film filé ou un polymère) qui forme un masque ressemblant beaucoup à un motif gravé. Lorsqu'elles sont exposées à la lumière, les molécules à l'intérieur de la résine photosensible se décomposent, ce qui permet de transférer la conception du masque. Les systèmes photorésistants sont un élément essentiel de la photolithographie et DAINIPPON MP-2000 fournit un équipement très durable et fiable pour la filtration sélective de la lumière pour la plaquette. Son miroir en aluminium réfléchissant est très efficace pour fournir un éclairage rapide et le photorésist négatif ou positif permet de protéger les zones souhaitées des champs d'incidence de la lumière, créant l'environnement de photolithographie parfait.