Occasion HOE IE HIMJ-0072 #9132945 à vendre en France

HOE IE HIMJ-0072 est un équipement de photorésistance développé par HOE (Organic Organic Electronics) qui utilise une nouvelle technologie d'impression intaglio et des composants améliorés. Ce système photorésist est destiné à être utilisé dans la réalisation d'afficheurs électroluminescents à haute résolution, à faible coût et basse tension. HIMJ-0072 comprend un substrat photorésist de base et deux couches de dépôt de couleur. Le substrat de base est un film transparent d'oxyde d'étain d'indium (ITO) avec une couche barrière d'oxyde d'étain recuit (ATO )/oxyde de titane (TiO2). Ce substrat de base est conçu pour assurer une couverture uniforme et une faible résistance aux matériaux utilisés dans le dépôt des deux couches colorées sur le dessus. Les couches de dépôt de couleur sont formées par deux procédés d'évaporation différents : un procédé d'évaporation résistive utilisant un masque métallique et un procédé d'évaporation directe utilisant un masque semi-conducteur. La première couche est une photorésist à tonalité négative qui est modelée à l'aide d'un seul photomasque dans le procédé d'évaporation résistive. Cette couche est conçue pour être un motif conducteur qui servira de guide pour les matériaux électroluminescents dans la deuxième couche de dépôt. La deuxième couche est constituée de matériaux luminophores électroluminescents et est déposée par évaporation directe. La combinaison de ces deux couches fournit un affichage haute résolution qui est à la fois basse tension et faible coût. L'épaisseur de la couche des matériaux luminophores de la deuxième couche est contrôlée de façon constante par un procédé de dépôt thermiquement contrôlé. La résolution de l'affichage est également maintenue élevée grâce à l'utilisation d'un photomasque de résolution sous-micron. La machine de photorésistance HOE IE HIMJ-0072 est adaptée pour la production d'écrans électroluminescents avec une résolution accrue et des coûts faibles. Cet outil est conçu pour être compatible avec les processus existants et est bien adapté pour produire des motifs très détaillés avec un niveau impressionnant de précision. En raison de ses propriétés basse tension, l'actif peut être utilisé dans des applications où la consommation d'énergie doit être réduite au minimum.