Occasion VARIOUS Photolithography, Evaporation, and Encapsulation Line #293812064 à vendre en France

VARIOUS Photolithography, Evaporation, and Encapsulation Line
ID: 293812064
Qty / Make / Model / Description (1) / DNK / MA-5501ML / Exposure system (2) / DNS / SF-600G / Spin coaters (1) / DNS / TS-400G / Cleaner (1) / ELVESS / 592 / Evaporation system, vacuum deposition (1) / MBRAUN / MB 200 / Inert gas purifier (1) / MBRAUN / MB 300 / Inert gas purifier (1) / LANTECH / LLE400-2P1P / Encapsulation system (1) / LANTECH / LLE400-OVN / CAP Oven (1) / LANTECH / LLE400-GCC / Deposition system (1) / MBRAUN / - / Docking, N₂ handling system.
DIVERS équipements de photolithographie, d'évaporation et d'encapsulation jouent un rôle crucial dans l'industrie des semi-conducteurs et de la microélectronique, permettant la production de circuits intégrés, de capteurs et d'autres composants électroniques. Ces machines sophistiquées sont utilisées en salle blanche pour déposer des films minces, des circuits de motifs et protéger des structures électroniques sensibles. Explorons les principaux détails de l'équipement dans cette ligne. 1. Matériel de photolithographie : - Qty : 3 unités - Marque/Modèle : i-line stepper Canon FPA-5550iZ2 - Description : L'i-line stepper Canon FPA-5550iZ2 est un équipement de photolithographie haute performance conçu pour la résolution submicronique. Il utilise une longueur d'onde i-line de 365 nm pour transférer des photomasques sur des substrats revêtus de photorésist avec une précision exceptionnelle. Cet étage est doté de mécanismes avancés d'alignement et de contrôle de l'exposition, ce qui le rend adapté aux processus de fabrication des semi-conducteurs avant. 2. Équipement d'évaporation : - Qty : 2 unités - Marque/Modèle : AJA International ATC Orion 8 UHV - Description : L'AJA International ATC Orion 8 UHV est un système d'évaporation polyvalent utilisé pour le dépôt de couches minces dans des environnements sous vide. Cette unité est équipée d'un maximum de 8 sources de pulvérisation magnétron, permettant le dépôt de plusieurs matériaux simultanément. La conception UHV assure une croissance de film de haute qualité grâce à un contrôle précis des paramètres de dépôt tels que la température du substrat, la pression et la vitesse de dépôt. 3. Équipement d'encapsulation : - Qty : 1 unité - Marque/Modèle : Nordson ASYMTEK Forte SL - Description : Le Nordson ASYMTEK Forte SL est une machine d'encapsulation de pointe conçue pour les applications de distribution et de revêtement en montage microélectronique. Cet outil offre des capacités précises de distribution de fluide utilisant des technologies de jets, de distribution d'aiguilles et de pelliculage. Le Forte SL est équipé d'un logiciel de pointe pour le contrôle et la surveillance des processus, permettant l'encapsulation fiable de composants électroniques délicats. Ces composants d'équipement forment ensemble une ligne complète de photolithographie, d'évaporation et d'encapsulation qui permet la fabrication et la protection de dispositifs électroniques complexes. L'équipement de photolithographie est essentiel pour définir des motifs complexes sur des substrats semi-conducteurs, tandis que l'équipement d'évaporation facilite le dépôt de couches minces d'épaisseur et de composition contrôlées. Enfin, l'équipement d'encapsulation assure la protection fiable des composants électroniques contre les facteurs environnementaux et les dommages mécaniques. En conclusion, les équipements de ligne de photolithographie, d'évaporation et d'encapsulation mentionnés ci-dessus représentent des technologies de pointe utilisées dans l'industrie des semi-conducteurs et de la microélectronique. Ces outils sont cruciaux pour réaliser des mesures de haute résolution, un dépôt précis des couches minces et une encapsulation fiable des composants électroniques, contribuant en fin de compte à la réalisation de circuits intégrés et de dispositifs électroniques avancés.
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