Occasion PVA TEPLA FZ 14MV #293748092 à vendre en France
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ID: 293748092
(2) Float Zone (FZ) Crystal Growers, 2"
Vacuum chamber with door
Vacuum system
Argon (Ar) gas line
Cooling water system
(2) Pumps with filter
High Frequency (HF) tube oscillator
Oscillating circuit
Control cabinet
Feed rod holder
Inductor
Seed holder
Preheater
Generator
Vacuum valve
Remote box
Programmable Logic Controller (PLC) control
Vacuum gauge
Operating panel
Indicator
RG218 Coaxial power cable, 2 m.
PVA TEPLA FZ 14MV est un équipement sophistiqué de culture, sciage et tranchage de cristaux utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour la production de monocristaux de haute qualité de divers matériaux. Ce système avancé intègre plusieurs processus pour permettre un contrôle précis de la croissance des cristaux, du sciage et des opérations de tranchage. L'aspect de croissance cristalline de l'unité FZ 14MV implique la fusion contrôlée et la solidification d'un cristal de graine pour faire croître un monocristal plus grand avec les propriétés souhaitées. Ce procédé est crucial pour la réalisation de matériaux semi-conducteurs présentant des caractéristiques électriques, optiques ou mécaniques spécifiques. La machine fournit un environnement stable et contrôlé pour la croissance du cristal, y compris la régulation de la température, le contrôle de l'atmosphère gazeuse et la surveillance précise de la morphologie du cristal. Les capacités de sciage et de tranchage de l'outil PVA TEPLA FZ 14MV permettent de découper avec précision les cristaux cultivés en plaquettes ou tranches d'épaisseur uniforme. Ceci est essentiel pour le traitement ultérieur des cristaux en dispositifs semi-conducteurs tels que transistors, diodes et capteurs. L'actif intègre des outils de sciage de haute précision et des techniques de coupe pour minimiser les pertes de matériaux et assurer la qualité des plaquettes qui en résultent. Les principales caractéristiques du modèle FZ 14MV sont les suivantes : 1. Contrôle de température de haute précision : L'équipement est équipé de mécanismes de chauffage et de refroidissement avancés pour maintenir une température stable tout au long des processus de croissance, sciage et tranchage du cristal. Cela garantit des propriétés cristallines uniformes et une production de plaquettes de haute qualité. 2. Contrôle de l'atmosphère gazeuse : Le système permet de contrôler avec précision l'atmosphère gazeuse entourant le cristal pendant les opérations de croissance, de sciage et de tranchage. Ceci aide à prévenir la contamination et l'oxydation du cristal, assurant la pureté du matériau semi-conducteur final. 3. Contrôle automatisé des processus : l'unité PVA TEPLA FZ 14MV dispose d'une machine de contrôle sophistiquée qui automatise divers aspects des processus de croissance, de sciage et de tranchage des cristaux. Cela réduit l'erreur humaine, améliore l'efficacité et permet d'augmenter le débit dans la production de semi-conducteurs. 4. Conception modulaire : L'outil est conçu avec la modularité à l'esprit, permettant une personnalisation facile et l'intégration de modules supplémentaires pour des besoins spécifiques de croissance ou de traitement des cristaux. Cette flexibilité fait de FZ 14MV un atout idéal pour la recherche et le développement ainsi que pour la fabrication de semi-conducteurs à grande échelle. Dans l'ensemble, le modèle PVA TEPLA FZ 14MV de croissance de cristaux, sciage et tranchage représente une solution de pointe pour la production de monocristaux et de plaquettes semi-conductrices de haute qualité. Ses fonctionnalités avancées, son contrôle de précision et ses capacités d'automatisation en font un outil précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à produire des appareils de pointe avec des performances et une fiabilité supérieures.
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