Occasion ASM Advance 300 VT #9206101 à vendre en France

ID: 9206101
Style Vintage: 1997
Vertical LPCVD furnace Process: Oxide CIM Main system: Main body (Carrier stage) Utility box Handler system: Wafer handing robot Boat elevator Cassette loader General configuration: System layout type: U/Box type(I) System hand: LL N2 Load lock Heater type: Temp wire Torch heater Process gasses: Gas 1 / N2(30SLM) Gas 2 / O2(20SLM) Gas 3 / HCL Gas 4 / N2O Gas 5 / H2O Gas distribution system: Basic style: Conventional gas system Tubing material: Stainless steel Tubing finish: Nupro MFC Unit Wafer/Cassette handling: Wafer type: 8" SEMI STD-Notch Cassette type: Entergris/704-503T2 (25) Cassette wafers (16) Cassette storage Fork type/Material Boat / Pedestal: (150) Production wafers Does not include boat rotation System controls: System controller: IBM 486 OS2 Torch controller: H2O Separate element pre burner Signal tower colors: G/A/B General pressure display units: Pressure PSI Cabinet exhaust display units: H2O ASM Furnace temp controller Host communications: Host communications: User host computer User host computer I/F: SECS I/II (RS232) Information transfer protocol: GEM Equipment host I/F connection: U/BOX Top HIA Group controller Power input: Voltage: 3-Phase, 208VAC Voltage: 1-Phase, 120VAC UPS Input / Output voltage: 120V/100V 1997 vintage.
ASM Advance 300 VT est un système de four de diffusion et d'accessoires fabriqué par ASM International. Il est conçu pour être un système de gravure et de dépôt modulaire et complet qui intègre des composants adaptés à un large éventail d'applications dans la recherche et la fabrication de semi-conducteurs, la recherche et la fabrication de MEMS, et la production de cellules solaires. Le Advanced 300 VT présente plusieurs caractéristiques essentielles pour les opérations réussies du four de diffusion. Il est équipé d'un four de diffusion sous vide, d'une chambre de traitement à basse pression en une seule étape, d'un pyromètre et d'un thermocouple pour le contrôle de la température et d'un suscepteur chauffé par résistance. Le four comprend également un pyromètre à commande indépendante pour le contrôle des gaz d'échappement. Le four a une consommation d'énergie ultra-faible en raison de sa faible consommation d'énergie dans les cycles de chauffage et de refroidissement, contribuant à réduire les coûts globaux. Pour un contrôle plus précis du processus, le Advanced 300 VT comprend une source numérique Varian 801 pour contrôler la vitesse de changement de température, ainsi qu'un microprocesseur embarqué pour le contrôle en temps réel des paramètres du processus. Le microprocesseur est également utilisé en liaison avec une interface utilisateur graphique ou contrôleur logique programmable (PLC) pour un réglage aisé des paramètres du four de diffusion. Le four s'intègre parfaitement à d'autres équipements, tels qu'un scanner On-Wafer pour contrôler à la fois l'alignement du substrat et le profil de température. Il dispose également de nombreuses étapes manuelles et automatisées pour assurer une parfaite uniformité, comme le contrôle auto-temp et le contrôle de débit. Le Advanced 300 VT dispose également de cycles de processus haute vitesse et haute précision, permettant un débit plus élevé. Il est capable de raccourcir les temps de processus en raison du contrôle automatisé du profil, et la capacité de modifier les paramètres de processus comme souhaité. La chambre à vide offre également une température constante pour une diffusion optimale efficace et contient un mandrin de suscepteur pour empêcher les débris d'entrer dans la chambre et de causer des dommages. Le Advanced 300 VT est également conçu pour la sécurité - les caractéristiques de sécurité de niveaux 1 et 2 et une conception spéciale pour protéger l'utilisateur contre les rayonnements thermiques et la température excessive pendant les opérations normales. Le Advanced 300-VT offre des cycles de processus précis et reproductibles qui permettent aux utilisateurs d'améliorer leur productivité et leur fiabilité. C'est le choix idéal pour les applications de recherche et de fabrication, en raison de sa polyvalence, de son fonctionnement efficace et de son excellente extensibilité.
Il n'y a pas encore de critiques