Occasion ASYST / PST Melitas F30VD #9246528 à vendre en France

ASYST/PST Melitas F30VD est un four de diffusion et des accessoires pour le dopage haute performance des plaquettes de silicium. Il est conçu pour des applications où des processus de diffusion basse température/haute précision sont nécessaires, comme la production de diodes électroluminescentes (LED), de diodes absorbantes de lumière (LAD), de cellules solaires et d'autres produits électroniques à haute performance. Le système d'auto-chargement sans fossiles permet le dopage fréquent de plaquettes de silicium de 14 pouces de diamètre, avec une non-uniformité inférieure à 2 %. Un processus de chauffage répétable utilisant la paroi verticale chaude et la convection naturelle assure une excellente uniformité de température sur le diamètre de la plaquette. Ce four de diffusion est capable d'un contrôle de température stable sur une large gamme avec un contrôle indépendant des températures de processus jusqu'à 1250 ° C dans un four vertical. Il dispose également de capacités de cycle de four à vide et de contrôle de gaz haute pression pour le dopage élevé uniforme et localisé des plaquettes de silicium. La configuration du flux de gaz peut être conçue pour une variété de techniques de dopage, selon l'application. Les avantages du four de diffusion PST Melitas F30VD comprennent des temps de cycle réduits jusqu'à 40 %, une amélioration de la sélectivité et de l'uniformité latérale, ainsi que des niveaux de dopage précis avec amplification des distributions de dopants. De plus, la livraison de gaz contrôlée par ordinateur et les contrôles brevetés des parois chaudes minimisent l'impact des contaminants de surface sur le processus de diffusion. Le manipulateur intégré et la cassette amovible assurent un transfert sûr et facile des plaquettes de silicium avec une manipulation minimale et une contamination réduite. Le four de diffusion ASYST Melitas F30VD offre des résultats fiables et cohérents en raison de sa conception flexible et de sa capacité à interagir avec les systèmes de processus et de contrôle. Avec un ensemble de fonctionnalités améliorées, telles que le système d'envoi automatique de dopants, le débogage intégré du flux de processus et le réglage réglable du profil cristallin, ce four de diffusion est idéal pour la production en grand volume d'électronique haute performance.