Occasion BLACKSTONE / NEY MACS-25-US-HIT #9227403 à vendre en France

BLACKSTONE/NEY MACS-25-US-HIT est un four de diffusion avec des éléments de chauffage intégrés qui assurent une répartition précise et uniforme de la chaleur. Il est composé d'une chambre chauffée, de l'unité de commande du four et de l'accessoire. La chambre chauffée est conçue pour contenir jusqu'à 25 porteurs de taille standard. Ces supports peuvent être configurés pour les procédés de pulvérisation, PECVD, implantation ionique, recuit thermique rapide et oxydation. L'unité de commande du four permet un contrôle précis de tous les éléments chauffants. Il dispose de quatre régulateurs de température qui offrent une précision combinée ± 1 ° C. L'unité de contrôle contient également une fonction de commande prédictive adaptative qui ajuste le profil de température pour une meilleure uniformité du processus. En outre, l'interface utilisateur permet un paramétrage et une surveillance faciles et peut connecter jusqu'à 20 recettes distinctes. L'accessoire de NEY MACS-25-US-HIT comprend une pompe turbomoléculaire à grande vitesse qui est utilisée pour créer un environnement à vide élevé. Cette pompe à régime variable est capable de réaliser un vide allant jusqu'à 10-6 torr. De plus, le système comprend un piège à froid qui capture et stocke les volatiles pour éviter la contamination de l'environnement chauffé. Afin de faciliter l'installation, BLACKSTONE MACS-25-US-HIT est livré avec tous les composants nécessaires, y compris les contrôleurs de processus, la pompe turbomoléculaire à grande vitesse, le piège à froid, les supports de transport, les conduites de gaz et les connexions électriques. Il est également équipé d'un mécanisme de levage mécanique pour l'insertion et le démontage simplifiés des porteurs. MACS-25-US-HIT four de diffusion est une solution fiable et polyvalente idéale pour diverses applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Son contrôle précis de la température et ses capacités de chauffage uniformes le rendent adapté à des procédés complexes tels que la pulvérisation, le PECVD, l'implantation ionique, le recuit thermique rapide et l'oxydation. Il dispose également d'une pompe turbomoléculaire à grande vitesse et d'un piège à froid pour créer un environnement à vide élevé et sans contamination, tandis que son interface utilisateur intuitive et son accès pratique favorisent un fonctionnement efficace et facile.