Occasion BRUCE Furnace #293759555 à vendre en France

BRUCE Four est un équipement de diffusion de pointe conçu pour assurer un traitement thermique précis et uniforme des plaquettes de semi-conducteurs dans un environnement contrôlé. Ce four BRUCE avancé est équipé d'une gamme de caractéristiques et d'accessoires pour garantir une performance optimale et la qualité des produits dans la production de dispositifs semi-conducteurs. Four est construit avec des matériaux de haute qualité et l'artisanat pour fournir des résultats fiables et cohérents dans les applications de traitement des plaquettes. Le système se compose d'un tube horizontal BRUCE Four avec plusieurs zones de chauffage et des mécanismes de contrôle du débit de gaz pour créer un profil de température uniforme sur la surface de la plaquette. Le four à tubes est en quartz ou en carbure de silicium de haute pureté pour résister à des températures élevées et à des gaz corrosifs. Une des caractéristiques clés de BRUCE Furnace est son unité de régulation de température précise, qui permet aux utilisateurs de régler et de maintenir la température désirée avec une grande précision. La machine est équipée de thermocouples et de contrôleurs PID pour surveiller et réguler la température du four en temps réel, assurant un chauffage stable et uniforme des plaquettes tout au long du processus. Le processus de diffusion dans BRUCE Four est facilité par l'introduction contrôlée de gaz dopants dans la chambre du tube Four. L'outil est équipé de régulateurs de débit massique et de systèmes de distribution de gaz pour fournir des quantités précises de gaz dopants, tels que le bore ou le phosphore, à la surface de la plaquette. Le processus de diffusion peut être effectué dans un environnement atmosphérique ou sous vide, selon les exigences spécifiques de l'application. Pour améliorer le processus de diffusion et assurer l'uniformité sur la surface des plaquettes, BRUCE Four est équipé d'un mécanisme de rotation qui permet aux plaquettes de tourner en continu pendant le traitement. Ce mécanisme de rotation assure une répartition uniforme des gaz dopants sur la surface de la plaquette, d'où un profil dopant et des caractéristiques électriques cohérents dans les dispositifs semi-conducteurs finaux. Outre le procédé de diffusion, Four peut également être utilisé pour diverses applications de traitement thermique, telles que le recuit, l'oxydation et le dépôt. L'actif est polyvalent et personnalisable pour répondre à différentes exigences de processus et tailles de plaquettes, ce qui le rend adapté à un large éventail d'environnements de recherche et de production. BRUCE Furnace est conçu pour faciliter le fonctionnement et la maintenance, avec une interface logicielle intuitive pour définir les paramètres du processus et surveiller les performances du modèle. L'équipement est équipé de dispositifs de sécurité, tels que la protection contre les intempéries et la détection des fuites de gaz, pour assurer la sécurité de l'opérateur et prévenir les dommages à l'équipement. Dans l'ensemble, Four est un système de diffusion fiable et polyvalent BRUCE Four qui offre un contrôle précis de la température, un chauffage uniforme et des capacités de diffusion dopantes améliorées pour les applications de traitement des plaquettes semi-conductrices. Ses fonctionnalités avancées et ses accessoires en font un outil précieux pour les chercheurs et les fabricants qui cherchent à obtenir des performances et une qualité optimales dans leurs processus de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.