Occasion CANON / ANELVA COSMOS 300 I-1201 #9210942 à vendre en France

CANON/ANELVA COSMOS 300 I-1201 Diffusion Four est un système de dépôt de haute précision conçu pour fabriquer des structures de dispositifs de grande surface avec précision au niveau atomique. Ce système est équipé d'un four de capacité de plaquettes de 12 pouces et est capable de fonctionner sous ultra-vide pour le traitement thermique de matériaux de grande gamme, y compris le saphir, le silicium, l'oxydation/dopage et le revêtement optique. Il présente une conception à paroi chaude, dans laquelle le gaz est introduit à la surface des substrats ou alimente dans une direction radiale, et fournit une température et un débit de gaz uniformes pour un contrôle précis du processus de dépôt. Il comprend également une zone de traitement de plaquettes de 300mm qui protège l'opérateur et rend le système encore plus flexible en permettant l'engagement d'une variété de processus automatisés. Il utilise des sources d'énergie DC et RF pour les processus bipolaires et monolithiques, qui aident à contrôler pleinement le processus. Le four de diffusion CANON COSMOS 300 I-1201 est adapté aux procédés de dépôt à haute température, tels que le silicium polycristallin, le siliciure de tungstène, le siliciure de titane, le siliciure d'aluminium et l'épitaxie de silicium, et a une plage de température variable allant jusqu'à 1250 ° C et une plage de vide de 5 x 10-8 torr. En outre, il supporte jusqu'à quatre gaz pour le processus de dépôt et de gravure ainsi que l'injection de liquide en option. Sa gamme de concentration en oxygène est optimisée pour soutenir le dépôt d'oxydes par des processus d'oxydation sèche ou humide, et ses rapports Hydrogène/Azote et Argon/Hydrogène peuvent être facilement modifiés pour contrôler avec précision la vitesse de gravure. Le four de diffusion ANELVA COSMOS 300 I-1201 est livré avec divers accessoires utiles, tels qu'un mandrin Epi Ring et une sonde Sample, une prise multi-gaz pour contrôler le débit de gaz, une alimentation haute tension pour contrôler la croissance du cristal, et un porte-bouteille de gaz haute pression pour l'alimentation directe en gaz. Ses suscepteurs en quartz et en alumine à changement rapide peuvent accueillir des plaquettes jusqu'à 300mm de diamètre, ce qui les rend facilement échangeables pour diverses exigences de processus. En outre, sa technologie PIP (Pressure Indirect Programmable) et jusqu'à 4 régulateurs de gaz permet un contrôle de pression de chambre exceptionnel et une mémoire de recette pour des processus reproductibles précis. Ce four de diffusion fournit donc des procédés de dépôt fiables et de grande qualité.