Occasion CENTROTHERM Parallel plate for Silicon nitride deposition system #293669093 à vendre en France

CENTROTHERM Plaque parallèle pour les équipements de dépôt de nitrure de silicium est un four de diffusion et un système accessoire conçu pour répondre à une gamme d'applications de semi-conducteurs. Le four de diffusion assure un traitement thermique uniforme et un revêtement uniforme du nitrure de silicium à l'aide d'un sublimateur conçu avec deux plaques parallèles. L'unité est conçue pour avoir une conception conique unique pour le chanfreinage de fond qui s'adapte dans le corps de la machine. La chambre supérieure est construite en matériau résistant à haute température et fournit une plaque à vide qui accueille deux plaques parallèles. Il est également prévu une alimentation en gaz inerte contrôlé extérieurement qui aide à contrôler le processus de sublimation, permettant un contrôle précis de la concentration des molécules de silicate de nitrure et empêchant le surdopage du substrat. L'outil dispose également d'une conception brevetée de zone chaude qui offre une uniformité de température améliorée sur toute la zone chauffée. La source de chauffage symétrique crée une plage de température constante qui est également facile à régler et à contrôler. En outre, l'actif offre également une excellente uniformité de température sur toute la zone chauffée. Le modèle est adapté au développement et à la fabrication de produits en nitrure de silicium. Pour le développement de produits, l'équipement dispose d'une gamme de méthodes classiques et avancées de traitement des plaquettes à chaud. Cela comprend les processus de dépôt tels que le dépôt par couche atomique (DAL) et le dépôt chimique en phase vapeur (DAV), ainsi que le recuit, la gravure et la formation de contacts métalliques. Plaque parallèle pour système de dépôt de nitrure de silicium est très compatible avec une gamme de matériaux et de substrats. Selon l'application, différents matériaux de revêtement tels que le DLC, le LPCVD et le silane PECVD peuvent être utilisés. De plus, l'unité est également compatible avec les métaux, le verre, la céramique et les matières plastiques. La machine est également conçue avec une zone d'exclusion unique à l'intérieur de la chambre supérieure, ce qui contribue à réduire le risque que les molécules de SiNx frappent les parois et créent un blocage. Un contrôleur tactile facile à utiliser est fourni qui facilite le fonctionnement et la surveillance de tous les éléments de l'outil. Le contrôleur offre également une communication avec les systèmes externes ainsi qu'un suivi en ligne des paramètres du processus en temps réel. En conclusion, la plaque parallèle CENTROTHERM pour les dépôts de nitrure de silicium est un modèle polyvalent et efficace pour une gamme d'applications de semi-conducteurs. Grâce à ses caractéristiques avancées et à sa compatibilité avec une gamme de matériaux et de substrats, l'équipement assure un traitement efficace et uniforme de diffusion des molécules de nitrure de silicium.