Occasion FUJIFILM TC 2000RM-CH #9399835 à vendre en France

FUJIFILM TC 2000RM-CH est un four de diffusion fiable et performant conçu pour assurer un chauffage efficace et uniforme des substrats semi-conducteurs et de leurs structures associées. La machine dispose d'un capteur de réaction de longue durée, de haute précision, d'un équipement de refroidissement avancé pour une sécurité accrue et d'un ventilateur de refroidissement pour la réduction du bruit. Il est capable de fonctionner à grande vitesse et présente une large gamme de températures allant de 250 à 450 ° C La machine est équipée de deux chauffages de haute précision uniques, d'un capteur de réaction et d'un système de refroidissement pour assurer un chauffage uniforme et efficace du substrat. Les deux éléments chauffants permettent un contrôle automatisé de la température et de la vitesse du procédé. Le capteur de réaction fournit une mesure précise de la température, permettant un contrôle précis et fiable. La chambre en acier inoxydable léger et résistante à la corrosion garantit une longue durée de vie et un fonctionnement sans problème. L'unité de refroidissement avancée est conçue pour assurer la sécurité des opérateurs lors des opérations à grande vitesse. Il dispose d'un rideau d'air intégré pour protéger le substrat contre les dommages dus à la chaleur excessive et d'un ventilateur d'échappement pour réduire le niveau de bruit. La machine dispose également d'un interrupteur d'arrêt d'urgence, pour suspendre le processus de diffusion en cas d'urgence. TC 2000RM-CH est conçu pour répondre aux normes de sécurité et de performance les plus élevées, ce qui le rend idéal pour les applications nécessitant une précision élevée. Sa conception ergonomique permet un accès facile à la chambre, et la grande capacité assure un temps d'exécution rapide. FUJIFILM TC 2000RM-CH est un four de diffusion efficace, fiable et sûr qui fournit des rendements de production plus élevés et des opérations efficaces. Sa large gamme de températures, sa machine de refroidissement avancée et sa conception ergonomique offrent une sécurité accrue et un chauffage fiable des substrats semi-conducteurs, ce qui en fait un choix idéal pour toutes les applications.