Occasion HITACHI / KOKUSAI DD-1206VN-DM #9281054 à vendre en France
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ID: 9281054
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2004
Diffusion furnace, 12"
Quixace I / QWM
Furnace:
Quixace-mini (Silica bake) furnace
D4EX25085 Heater
RHC Heat (Quick-cooling)
RC-100 Exhaust pressure controller
Furnace mount
Scavenger
Process exhaust duct
Automation:
I/O Shutter
FOUP Transfer unit and loader
Rotation FOUP rack unit: 12-Step carrier stage
FOUP Opener unit
Wafer detect unit
Notch detect unit
Wafer transfer unit
Boat elevator unit: Up/down
Boat rotation unit
Furnace shutter unit
Gas (N2, O2):
Gas pressurized unit: Silica bake
Gas detector
Gas box
Controller:
CX3010 Controller
CQ1700 Temperature controller
Power control unit
2004 vintage.
HITACHI/KOKUSAI DD-1206VN-DM est un ensemble de fours à diffusion et d'accessoires qui fournit une solution automatisée et performante pour le traitement thermique rapide de divers substrats semi-conducteurs. Le four se compose d'un tube de quartz et d'un dispositif de chauffage résistif en graphite relié à l'unité de contrôle de l'alimentation, d'un équipement d'introduction de gaz, d'une unité de contrôle de la température pour la consigne de température et la surveillance, et d'une pompe à vide pour faire fonctionner l'ensemble du système. La boîte d'expansion comporte plusieurs zones de température, lui permettant de traiter plusieurs substrats simultanément avec des zones de chauffage indépendantes. Le four de diffusion est conçu pour une variété de procédés semi-conducteurs et de dimensions de plaquettes, allant de 150 à 300 mm, pour les applications CVD et PECVD. Il dispose d'une plage de températures élevées allant jusqu'à 1 250 ° C, et d'un contrôle de température serré avec une variation ± 0,1 ° C et une uniformité ± 0,25 ° C, ce qui permet d'optimiser les processus thermiques. L'unité dispose également d'un débit d'air à haut rendement, offrant des traitements thermiques uniformes et un débit amélioré. Son kit de dégazage est également disponible pour réduire le niveau d'oxygène pour la gravure et le dépôt d'oxyde. En plus du four, HITACHI DD-1206VN-DM comprend des accessoires tels qu'une plaque chauffante, des porte-pulvérisateurs, des tubes d'admission de gaz à haute température et un trou d'homme de chargement qui permettent un accès facile aux substrats qui doivent être traités. Sa construction robuste garantit des performances fiables tandis que son contrôleur avancé basé sur microprocesseur fournit un contrôle de chauffage amélioré par rapport à d'autres fours de diffusion sur le marché. KOKUSAI DD-1206VN-DM est idéal pour des procédés tels que l'oxydation, le recuit, la diffusion et le dépôt de films, et peut être utilisé dans diverses industries, y compris l'électronique grand public, les cellules solaires, les bio-capteurs et les instruments médicaux. Avec son régulateur de température de haute précision, sa machine à flux d'air efficace et son large choix d'accessoires, DD-1206VN-DM peut répondre aux exigences exigeantes du traitement thermique moderne.
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