Occasion HITACHI / KOKUSAI DD-853V-8BL2 #9182447 à vendre en France

HITACHI/KOKUSAI DD-853V-8BL2 est un type de four de diffusion spécialement conçu pour la recherche fondamentale, ainsi que l'application de semi-conducteurs. Il s'agit d'un équipement de four à un étage performant, capable d'élever la température jusqu'à 1300 ° C, tout en assurant un traitement thermique uniforme. Le système est principalement utilisé pour le dépôt, l'épitaxie, le recuit, l'oxydation et la diffusion de divers matériaux, y compris des semi-conducteurs, des métaux et des poudres. Le four de diffusion est composé de trois composants principaux : le corps principal, chargé de composants électroniques et de régulation de température ; le ventilateur circulant et l'appareil de douche à air ; et l'ensemble de base. L'unité principale se compose d'un corps de four, d'un thermomètre électronique, d'une unité de chauffage au gaz montée latéralement à l'arrière et d'un ventilateur de refroidissement. L'ensemble du ventilateur de refroidissement permet d'éliminer efficacement les variations de chaleur et de température du four. Le four est équipé d'un joint à vide protégé par un circuit pour assurer un contrôle optimal de la température. Le ventilateur circulant et la douche à air de HITACHI DD-853V-8BL2 assurent un traitement thermique uniforme. L'unité se compose d'un contrôleur-sous-contrôleur électrique supérieur, d'un ventilateur de type rotor et d'un moteur triphasé. Le ventilateur circulant, ainsi que l'outil de douche à air intégré, aident à obtenir une répartition uniforme de la température dans la chambre. KOKUSAI DD-853V-8BL2 est conçu pour une utilisation facile. Le corps principal est construit avec un design ergonomique, avec un panneau de commande facile à utiliser, permettant une surveillance et un réglage faciles de la température de traitement. DD-853V-8BL2 offre une technologie de four de diffusion fiable et puissante pour les réglages de laboratoire. Il est spécialement conçu pour la recherche fondamentale et les applications semi-conductrices et peut atteindre des températures allant jusqu'à 1300 ° C avec un traitement thermique uniforme. L'unité est construite avec un panneau de commande pratique et est facile à utiliser et à entretenir. Ce four de diffusion haute performance est idéal pour tout laboratoire de recherche ou installation de production de semi-conducteurs qui nécessite un contrôle de température de précision.