Occasion HITACHI / KOKUSAI DJ-1223VN #9377455 à vendre en France

HITACHI/KOKUSAI DJ-1223VN est un four de diffusion et ses accessoires associés, conçu pour le post-traitement des plaquettes semi-conductrices. L'atmosphère et la température à l'intérieur du four de diffusion sont étroitement contrôlées pour garantir des résultats précis et reproductibles. La température peut être réglée jusqu'à 1200 ° C et l'atmosphère peut être réglée sur des gaz métalliques ou organiques décomposés. Le four peut également être utilisé pour des procédés de dopage, d'oxydation et de recuit. La conception de HITACHI DJ-1223VN dispose d'une structure de grille multi-zones et d'un système de circulation de gaz unique pour fournir une distribution idéale et même de température à l'intérieur du four. Les parois internes du four sont également revêtues de résine polyimide pour améliorer les émissions thermiques. Ceci aide à réduire les variations de température près du centre de la plaquette et évite la contamination de la chambre de réaction. Le four dispose également de portes doubles pour le fermer de l'extérieur. Cela offre une étanchéité et une isolation loin supérieure par rapport aux modèles de porte unique typiques. Le système d'échappement est également équipé d'un servomoteur mécanique pour assurer l'évacuation forcée des gaz d'échappement. KOKUSAI DJ1223VN est alimenté par une source d'énergie 220V/1Ø 3KW et dispose d'une minuterie à cinq pas avec habitations réglables et taux de rampe. La température peut être réglée précisément à 0,1 ° C via un contrôleur externe. Des composants de sécurité tels que la protection contre la surcharge, la détection des fuites de gaz et les fonctions de protection contre les sas sont également intégrés. Le four est alimenté par un chauffe-échantillons, un matériel de contrôle de gaz, un échappement de panneaux avec filtre, un contrôleur de diffusion de gaz, une alimentation électrique, un chauffe-résistif et d'autres accessoires. HITACHI DJ1223VN offre une excellente performance pour les fours de diffusion utilisés dans le post-traitement des semi-conducteurs. Le contrôle serré de l'atmosphère et de la température élevée le rend idéal pour des applications telles que le dopage, l'oxydation et le recuit. La structure de grille multi-zones, les murs enduits de résine polyimide et la conception à double porte sont autant de caractéristiques qui ajoutent à sa fiabilité et à sa sécurité. De plus, la minuterie réglable et la précision de température de 0,1 ° C garantissent que les résultats sont toujours précis et reproductibles.