Occasion HITACHI / KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF #293744337 à vendre en France

HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF est un four de diffusion de pointe conçu pour des procédés de fabrication de semi-conducteurs performants. Ce four de diffusion est équipé de caractéristiques avancées et d'accessoires qui assurent un traitement thermique précis et uniforme des plaquettes, ce qui en fait un choix idéal pour la production de dispositifs semi-conducteurs de pointe. La chaudière de diffusion est capable d'atteindre de hautes températures jusqu'à 1250°C, avec une uniformité de température de dans ±2°C à travers la surface de gaufrette. Ce contrôle précis de la température est essentiel pour réaliser des processus de diffusion cohérents et fiables, minimiser les variations des niveaux de dopants et assurer les caractéristiques électriques souhaitées des dispositifs semi-conducteurs. HITACHI Quixace DJ-1226V-DF dispose d'une conception de flux de gaz vertical, qui favorise le mélange efficace des gaz et une distribution uniforme des gaz à l'intérieur de la chambre de processus. Cette conception permet de minimiser la stratification des gaz et d'assurer un traitement thermique cohérent des plaquettes sur l'ensemble du lot. De plus, la conception verticale du débit de gaz permet un meilleur contrôle des débits de gaz et des temps de séjour, optimisant les paramètres du processus de diffusion pour améliorer le rendement et les performances du dispositif. Le four de diffusion est équipé d'un tube à quartz de haute pureté qui fournit un environnement propre et stable pour le traitement des plaquettes. Le tube à quartz est résistant aux chocs thermiques et aux réactions chimiques, assurant la fiabilité et les performances à long terme du four de diffusion. De plus, le tube à quartz est transparent à la chaleur rayonnante, ce qui permet un chauffage efficace des plaquettes et une répartition uniforme de la température dans toute la chambre de procédé. KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF est équipé d'un équipement de livraison de gaz sophistiqué qui permet un contrôle précis des gaz dopants et des gaz porteurs pendant le processus de diffusion. Le système de distribution de gaz dispose de régulateurs de débit massique qui régulent avec précision les débits de gaz, assurant des conditions de processus reproductibles et des profils dopants uniformes sur la surface de la plaquette. L'unité de distribution de gaz est également conçue pour minimiser la consommation de gaz et les déchets, en optimisant le rapport coût-efficacité du processus de diffusion. Pour faciliter le fonctionnement et l'entretien, le four de diffusion est équipé d'une interface conviviale et d'une machine de commande. Les opérateurs peuvent facilement définir et surveiller les paramètres du processus, tels que la température, les débits de gaz et le temps de traitement, en utilisant l'interface intuitive de l'écran tactile. L'outil de contrôle fournit également des capacités d'enregistrement de données et de suivi de processus en temps réel, permettant d'identifier rapidement les problèmes de processus et d'optimiser les conditions de processus. En résumé, Quixace DJ-1226V-DF est un four de diffusion de pointe qui offre un traitement thermique haute performance et fiable pour la fabrication de semi-conducteurs. Avec ses caractéristiques et accessoires de pointe, tels que le contrôle précis de la température, la conception verticale du débit de gaz, le tube à quartz de haute pureté, l'équipement sophistiqué de livraison de gaz et l'interface conviviale, HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1226V-DF est un choix idéal pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des performances et un rendement supérieurs.