Occasion HITACHI / KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF #293711268 à vendre en France
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ID: 293711268
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2016
Vertical LPCVD Furnace, 12"
Heating element
(2) Port loaders
Power rack
Spare parts
Cables
2016 vintage.
Introduction : HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF est un four de diffusion de pointe conçu pour un traitement thermique précis et uniforme des plaquettes semi-conductrices. Cet équipement de pointe est équipé d'une gamme de caractéristiques et d'accessoires innovants qui le rendent idéal pour des environnements de production à haut volume nécessitant des performances et une fiabilité supérieures dans l'industrie des semi-conducteurs. Caractéristiques clés : Le four de diffusion HITACHI Quixace DJ-1236VN-DF est un système de four vertical avec une configuration de chargement supérieure, offrant un accès facile à la chambre de processus pour le chargement et le déchargement des plaquettes. L'unité est équipée d'un chargeur de bateau de grande capacité qui peut accueillir plusieurs porteurs de plaquettes, maximisant le débit et l'efficacité. La chambre du four est construite en quartz de haute pureté, assurant une excellente isolation thermique et une résistance aux réactions chimiques, minimisant ainsi la contamination et assurant un traitement de haute pureté. La machine dispose d'un outil de distribution de gaz robuste avec des régulateurs de débit massique précis pour contrôler avec précision les débits de gaz de procédé, permettant un contrôle précis des conditions de processus. Le four de diffusion KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF est équipé d'un système de chauffage haute performance qui permet une montée et une descente rapides des températures, assurant un traitement rapide et efficace des plaquettes. Le modèle dispose d'une configuration de chauffage multi-zones avec contrôle de température indépendant de chaque zone de chauffage, permettant une uniformité de température précise sur la surface de la plaquette. Contrôle et surveillance des processus : Le four de diffusion Quixace DJ-1236VN-DF est équipé d'un équipement sophistiqué de contrôle des processus qui permet un contrôle précis des paramètres du processus, y compris la température, les débits de gaz et les débits de rampe. Le système dispose d'une interface utilisateur intuitive qui permet une programmation facile des recettes de processus et le suivi des paramètres de processus en temps réel. L'unité est équipée d'algorithmes avancés de contrôle de la température et de mécanismes de rétroaction qui assurent un contrôle précis de la température et l'uniformité sur la surface de la plaquette. La machine dispose également d'un outil intégré de verrouillage de sécurité qui assure un fonctionnement sûr du four et protège l'actif contre les risques potentiels. Accessoires et options : Le four de diffusion HITACHI/KOKUSAI Quixace DJ-1236VN-DF est disponible avec une gamme d'accessoires et d'options pour améliorer ses capacités et l'adapter aux exigences spécifiques du processus. Les caractéristiques facultatives comprennent une chambre de verrouillage de charge pour la manutention automatisée des plaquettes, un modèle de pompe à vide pour l'évacuation des chambres de traitement et un équipement de cartographie des plaquettes pour la surveillance de la position et de la température des plaquettes pendant le traitement. Le système peut être configuré avec diverses options de distribution de gaz de procédé, y compris des sources de gaz dopants et des modules de contrôle de gaz porteurs, pour permettre un large éventail de processus de diffusion. L'unité peut également être équipée d'une machine avancée de suivi des plaquettes qui permet la traçabilité des plaquettes tout au long du cycle de traitement. Conclusion : En conclusion, le four de diffusion HITACHI Quixace DJ-1236VN-DF est un outil de haute performance qui offre précision, fiabilité et efficacité dans le traitement des plaquettes semi-conductrices. Avec ses fonctionnalités avancées, son interface utilisateur intuitive et sa gamme d'accessoires, cet atout est idéal pour les environnements de production à haut volume nécessitant des performances et un contrôle supérieurs dans les applications de traitement thermique dans l'industrie des semi-conducteurs.
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