Occasion KOKUSAI CX-3000 #293762972 à vendre en France
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ID: 293762972
Taille de la plaquette: 12"
Diffusion furnace, 12"
P/N: DD-1223VN
Process: SI3N4
Main controller: CX3010 / CX3010B
Power supply: 208V, 1 Phase / 440 V, 3 Phase.
KOKUSAI CX3000 est un four de diffusion de pointe conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs de haute performance. Cet équipement de pointe offre un contrôle précis de la température, de la pression et du débit de gaz pour assurer un dépôt de film uniforme et reproductible sur les substrats de plaquettes. KOKUSAI CX-3000 est équipé d'éléments de chauffage avancés et de systèmes de distribution de gaz, ce qui le rend idéal pour les applications de recherche et de production dans l'industrie des semi-conducteurs. CX3000 dispose d'un four à tubes à haute température qui peut atteindre des températures allant jusqu'à 1200 ° C, permettant le dépôt d'une large gamme de couches minces. Le four à tubes est construit en matériau quartz de haute qualité, ce qui garantit une excellente stabilité thermique et une répartition uniforme de la température sur la surface de la plaquette. Cette fonctionnalité de conception est essentielle pour obtenir des propriétés de film cohérentes et fiables sur plusieurs plaquettes en un seul lot. En outre, CX-3000 est équipé d'un système sophistiqué de distribution de gaz qui permet un contrôle précis des débits de divers gaz de procédé, tels que dopants, oxydants et précurseurs. Ce niveau de contrôle est essentiel pour adapter le processus de dépôt aux exigences spécifiques des matériaux et aux spécifications de performance des dispositifs. L'unité avancée de distribution de gaz réduit également la consommation de gaz et assure un environnement de processus propre, ce qui entraîne un dépôt de film de haute qualité avec un minimum d'impuretés. En plus de ses systèmes sophistiqués de chauffage et de distribution de gaz, KOKUSAI CX3000 dispose d'une interface utilisateur intuitive qui permet aux opérateurs de programmer et de surveiller le processus de dépôt avec facilité. La machine est équipée d'un écran tactile, permettant aux opérateurs de définir avec précision les profils de température, les débits de gaz et d'autres paramètres de processus. L'interface conviviale comprend également des fonctionnalités de surveillance en temps réel et d'enregistrement des données, qui fournissent aux opérateurs des informations précieuses sur le processus de dépôt et permettent un dépannage rapide et l'optimisation des conditions de processus. KOKUSAI CX-3000 peut accueillir des plaquettes jusqu'à 300mm, ce qui le rend adapté à une large gamme d'applications de fabrication de semi-conducteurs, y compris les dispositifs logiques, les dispositifs de mémoire et les dispositifs de puissance. L'outil est compatible avec différents matériaux de plaquettes, tels que le silicium, l'arséniure de gallium et le carbure de silicium, permettant des capacités de dépôt polyvalentes sur différentes plates-formes de matériaux semi-conducteurs. CX3000 offre également une flexibilité dans la personnalisation des processus, permettant aux opérateurs de développer et d'optimiser les processus de dépôt pour les exigences spécifiques des dispositifs et les objectifs de performance. Dans l'ensemble, CX-3000 est un four de diffusion de pointe qui allie technologie de pointe, contrôle précis et fonctionnement convivial pour fournir un dépôt de film haute performance pour des applications de fabrication de semi-conducteurs. Avec sa conception robuste, ses capacités polyvalentes et son interface intuitive, KOKUSAI CX3000 est un outil précieux pour les chercheurs et les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à développer des appareils de nouvelle génération avec des performances et une fiabilité supérieures.
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