Occasion KOKUSAI CX-5000 #293762571 à vendre en France

KOKUSAI CX-5000 est un four de diffusion et des accessoires utilisés pour les processus de diffusion dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est conçu à haute température et offre d'excellentes performances pour divers processus de diffusion, y compris le bore, le phosphore et le dopage à l'arsenic. Il est adaptable aux dimensions des plaquettes de quatre pouces, six pouces et huit pouces et dispose d'un tube de traitement de quartz 250mm pour des températures uniformes. Cet équipement de diffusion est équipé d'un microscope Nikon pour visualiser les plaquettes lorsqu'elles sont dans le four, permettant une inspection visuelle rapide. CX-5000 comporte trois zones de processus individuelles : la zone de préchauffage, la zone de diffusion et la zone de refroidissement. La zone de préchauffage est conçue avec un réchauffeur fort pour chauffer uniformément la plaquette avant son entrée dans la zone de diffusion, et est indépendante de la zone de diffusion, permettant son fonctionnement à des températures plus basses que la zone de diffusion. Cette conception assure une homogénéité des températures dans l'ensemble de la plaquette pendant qu'elle se trouve dans la zone de préchauffe et empêche la formation de gradients thermiques après l'entrée dans la zone de diffusion. La zone de diffusion a une conception haute température avec des températures stables pour des processus de diffusion précis dans tout le système. La conception haute température fonctionne à des températures comprises entre 800 et 1150 degrés Celsius, permettant le traitement de diffusion du bore, du phosphore et de l'arsenic dopant. La zone de diffusion comprend également un essuie-glace automatique pour un nettoyage efficace. Le four de diffusion KOKUSAI CX-5000 est également équipé d'un réservoir d'alimentation en gaz intégré, d'une pompe à vide et d'un moniteur de gaz pour améliorer le contrôle et la sécurité des procédés. La zone se refroidissant de chaudière de diffusion CX-5000 offre un processus de refroidissement efficace et rapide. Il est équipé d'une unité de refroidissement en deux étapes qui fonctionne à une vitesse maximale de refroidissement de 50 degrés Celsius par minute. La zone de refroidissement évite les fissures des plaquettes pendant le processus de refroidissement et offre des performances de machine accrues. Le diffuseur KOKUSAI CX-5000 comprend également une multitude de fonctionnalités supplémentaires qui augmentent la précision et les performances, comme un E-scope qui surveille en permanence la température de chaque échantillon, un moniteur de puissance maximale avec sortie d'alarme, et un outil de refroidissement de type ventilateur pour réduire le chauffage de l'équipement pendant les processus de diffusion étendue. CX-5000 est le choix idéal pour les processus de diffusion à haute température en raison de sa haute température et de ses excellentes performances. Avec ses caractéristiques et capacités avancées, ce four de diffusion est le choix idéal pour divers procédés de fabrication de dispositifs en silicium.