Occasion KOKUSAI CX-5000 #293763015 à vendre en France

KOKUSAI CX-5000
ID: 293763015
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2010
Diffusion furnace, 12" Part number: DJ-1206VN -DF Process: SI3N4 Main controller: KDSC Power supply: 120 V, Single phase / 480 V, 3 Phase 2010 vintage.
KOKUSAI CX-5000 est un four de diffusion de pointe conçu pour la diffusion précise, uniforme et efficace de dopants dans des substrats en silicium pour la fabrication de semi-conducteurs. Ce four avancé est équipé d'une gamme de caractéristiques et d'accessoires qui facilitent le traitement thermique à haute température avec un contrôle et une fiabilité exceptionnels. Au cœur de CX-5000 se trouve un four à tube en quartz haute performance, qui fournit un environnement thermique stable et homogène pour les processus de diffusion de dopants. Le four est capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 1200 ° C, ce qui permet de contrôler avec précision les profils d'activation et de diffusion des dopants dans le substrat de silicium. Le tube à quartz est conçu pour résister aux chocs thermiques et aux attaques chimiques, garantissant des performances et une fiabilité à long terme. KOKUSAI CX-5000 est équipé d'un équipement sophistiqué de régulation de température qui permet aux utilisateurs de programmer et de surveiller la température du four avec une grande précision. L'uniformité de température à travers le tube du four est maintenue dans des tolérances serrées, assurant des résultats de diffusion cohérents et reproductibles. Le four dispose également de capacités de chauffage et de refroidissement rapides, permettant des cycles de processus rapides et un débit élevé dans la fabrication de semi-conducteurs. Pour améliorer le processus de diffusion, CX-5000 est équipé d'une gamme de systèmes de distribution et de mélange de gaz qui permettent un contrôle précis des gaz dopants et des gaz porteurs. Le système est capable de manipuler une variété d'espèces dopantes, dont le phosphore, le bore et l'arsenic, avec une grande pureté et stabilité. Les débits gazeux et les rapports de mélange peuvent être facilement ajustés pour optimiser les conditions de dopage pour des applications spécifiques de dispositifs semi-conducteurs. En plus du four central, KOKUSAI CX-5000 est livré avec un ensemble complet d'accessoires et d'options qui améliorent encore ses performances et sa polyvalence. Ces accessoires comprennent une serrure de chargement pour le chargement et le déchargement automatisés des plaquettes, une pompe à vide pour un contrôle précis de la pression et une gamme d'outils de contrôle et de contrôle des processus pour l'analyse en temps réel du processus de diffusion. Un des principaux avantages de CX-5000 est ses capacités avancées de contrôle des processus et d'automatisation. Le four est compatible avec le logiciel de contrôle de processus standard de l'industrie, permettant une intégration transparente dans les flux de travail de fabrication des semi-conducteurs. L'actif peut être facilement configuré pour le traitement par lots ou le traitement monobloc, selon les exigences spécifiques de l'application. Dans l'ensemble, KOKUSAI CX-5000 représente une solution de pointe pour la diffusion de dopants dans la fabrication de semi-conducteurs, offrant des performances, une fiabilité et une polyvalence exceptionnelles. Avec ses caractéristiques avancées et ses accessoires, ce four de diffusion fournit aux fabricants de semi-conducteurs les outils dont ils ont besoin pour réaliser des profils de dopage précis et uniformes pour une large gamme de dispositifs semi-conducteurs.
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