Occasion KOKUSAI DD-1223VN #9179435 à vendre en France

KOKUSAI DD-1223VN
ID: 9179435
Vertical LPCVD furnaces, 12".
KOKUSAI DD-1223VN est un ensemble de fours à diffusion et d'accessoires utilisés pour le traitement des semi-conducteurs tels que le dépôt en couches minces, l'épitaxie, l'oxydation et la diffusion. Le four se compose d'un contrôleur de système, d'un chauffe-diffusion, d'une turbomachine et d'une chambre à quartz, l'accent étant mis sur la précision du contrôle de la température et du débit de gaz. Le contrôleur système est un LCD TFT de 3 pouces avec interface tactile qui permet aux utilisateurs d'entrer des paramètres de température, définir des boucles PID pour un contrôle précis de la température, voir les paramètres de fonctionnement, et plus encore. Le chauffage de diffusion est un chauffage de haute qualité et à haut rendement qui peut atteindre des températures allant jusqu'à 1500 degrés Celsius et a une répartition uniforme de la température et est compatible avec les gaz tels que le silane de 1-tétra-méthyle et le silane. La turbomachine utilise des pompes rotatives sans huile et peut atteindre une pression de base de 0.2Torr. Cela garantit des performances fiables et des conditions de vide vierges. La chambre à quartz est construite en silice fondue conçue pour résister aux températures élevées et aux matériaux corrosifs. La chambre a un volume interne de 25l avec un diamètre de 12 pouces et une hauteur de 8 pouces et dispose d'une soupape de détente pour maintenir les conditions de pression nécessaires pendant le traitement. DD-1223VN offre une gamme complète de fonctionnalités qui en font un choix idéal pour toute application de traitement de semi-conducteurs. Avec un contrôle précis de la température et un débit de gaz fiable, c'est une excellente option pour le dépôt, l'épitaxie, l'oxydation et la diffusion. De plus, la conception de la chambre garantit que les matériaux ne contaminent pas l'intérieur, ce qui rend KOKUSAI DD-1223VN idéal pour tous les processus.
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