Occasion KOKUSAI DD-803V #9057581 à vendre en France

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KOKUSAI DD-803V
Vendu
ID: 9057581
Furnaces LP Nitride.
KOKUSAI DD-803V est un four de diffusion très avancé et des accessoires spécialement conçus pour le dopage des plaquettes et le traitement des contacts. Il fournit un chauffage uniforme jusqu'à 1150 ° C et a une large gamme de capacités qui en font un produit hautement désirable. Le four dispose d'un équipement de diffusion à basse pression monocouche avec une zone chaude de taille 20.5L et un intérieur recouvert de quartz. Il a une plage de température de l'équipement de ~ Ambient à 1150 ° C et une uniformité de température de +/-10 ° C Son chauffage uniforme le rend adapté à diverses applications, telles que le dopage des plaquettes et le traitement des contacts. En outre, le four est également livré avec un réacteur CVD supplémentaire qui fonctionne efficacement avec le processus basé sur la diffusion. Ceci est fait pour améliorer l'homogénéité thermique et accélérer la vitesse de réaction. Il offre également une productivité et une efficacité accrues dans la manipulation du processus. Le réacteur est doublé de quartz pour une excellente résistance thermique et est facile à installer et à assembler. Le four dispose également d'une large gamme d'accessoires, qui comprennent un contrôleur, un système de chargement automatique des plaquettes, et un convoyeur et une unité de préchauffage des plaquettes. Le contrôleur dispose d'un affichage des paramètres de la machine en temps réel, qui permet à l'utilisateur de prendre des mesures rapides si un paramètre commence à s'écarter et à s'assurer que les plaquettes sont traitées avec précision. L'outil de chargement automatique des plaquettes est un dispositif intégré, qui gère les plaquettes brutes et les maintient propres et propres. Le convoyeur et l'actif de préchauffage des plaquettes sont conçus pour augmenter l'efficacité et assurer un meilleur contrôle du processus. En conclusion, KOKUSAI DD-803-V est un four de diffusion avancé et fiable. Avec sa large gamme de caractéristiques, un chauffage précis jusqu'à 1150 ° C, et des accessoires efficaces, il est adapté à une variété d'applications. Les composants supplémentaires tels que le réacteur CVD, le contrôleur et les systèmes de chargement automatique des plaquettes en font un excellent choix en termes de prix, de performance et de fiabilité.
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