Occasion KOKUSAI DJ-853V-8BL #9309570 à vendre en France

KOKUSAI DJ-853V-8BL
ID: 9309570
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2004
Furnace, 8" High Temperature Oxide (HTO) 2004 vintage.
KOKUSAI DJ-853V-8BL est un four de diffusion et un accessoire conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Il est doté d'une chambre à vide en aluminium anodisé et d'un design robuste pour des applications à haute température et à vide élevé. Ceci permet une diffusion optimale de petites molécules du matériau source dans le substrat, créant ainsi un revêtement homogène. Il fournit une température maximale de travail de 1600 ° C et a une épaisseur de paroi de chambre de 200 mm. KOKUSAI DJ853V-8BL est scellé avec un cadre en acier soudé et refroidi à l'eau et utilise un équipement de commande d'obturateur électromagnétique. Ceci permet un réglage précis de la température de la chambre et une excellente uniformité de température. Il dispose également d'un système de vide multi-étages avec pompes à aubes rotatives et analyseur de gaz d'absorption infrarouge afin de fournir un processus d'évacuation efficace. Afin d'améliorer la sécurité de l'opérateur, DJ-853V-8BL est équipé d'un dispositif d'alarme qui éteint la machine en cas de changement de température anormal. En outre, il dispose également d'une fenêtre en verre minéral durci qui permet d'observer visuellement le processus de diffusion sans compromettre l'intégrité du vide. DJ853V-8BL peut être supervisé et contrôlé par un écran tactile convivial. Il est capable de stocker jusqu'à 500 recettes de processus et offre aux utilisateurs la possibilité de contrôler la chaleur et la diffusion thermique sur l'écran. Il permet aux utilisateurs de contrôler précisément l'atmosphère de gaz à l'intérieur de la chambre, supportant jusqu'à quatre gaz avec une pression maximale de 0,2 atm. KOKUSAI DJ-853V-8BL offre une grande variété de processus de diffusion et thermique et est spécifiquement conçu pour répondre à différentes exigences de diffusion et thermique. Il est idéal pour des applications telles que l'insertion de dopants, le traitement thermique, le traitement thermique rapide et le recuit rapide. Il convient également pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, de substrats d'affichage à panneau plat, de diodes laser, de capteurs magnétiques et d'autres composants associés.
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