Occasion KOKUSAI Quixace II ALD High-k #9196072 à vendre en France

KOKUSAI Quixace II ALD High-k est un four de diffusion de couche atomique (ALD) à la pointe de la technologie qui peut être utilisé pour la croissance de couches minces avec contrôle des processus à haute température et haute résolution. Il combine des fonctions conviviales, telles qu'un équipement de régulation de température de haute précision, avec une source efficace et fiable de gaz chaud et un mandrin de pièce stable. Une caractéristique unique de ce four est son système de distribution de réactifs en deux étapes qui permet la délivrance de grandes fractions de réactifs avec une excellente précision. L'unité de distribution du réactif est très configurable et peut être adaptée à diverses applications de dépôt, ce qui en fait un équipement incroyablement polyvalent. Cette machine est également livrée avec une gamme d'accessoires pour améliorer encore ses capacités et s'assurer qu'elle répond aux exigences de l'utilisateur. Cela comprend un outil de débit de gaz pour un contrôle précis de la température, ainsi qu'un ordinateur logique programmable qui permet de personnaliser et de mieux contrôler le processus ALD à des températures plus élevées. Le four est également livré avec une suite de caractéristiques de sécurité, y compris la surveillance de la pression et de la température, ainsi que l'arrêt sur-température. Quixace II ALD Haut-k four de diffusion a été conçu pour effectuer de manière fiable dans un éventail de conditions de processus, avec un accent sur la fourniture de résultats cohérents et précis. L'actif a été spécialement conçu pour déposer avec précision une grande variété de matériaux diélectriques haut de gamme, tels que HfO2, ZrO2 et Al2O3, avec une uniformité précise d'épaisseur de couche. De plus, KOKUSAI Quixace II ALD High-k est capable de contrôler l'ensemble du processus ALD tout en évitant toute incongruité à la surface du film déposé, grâce à son modèle de livraison de réactifs à deux étages. De plus, la répartition uniforme de la chaleur de cet équipement permet de réduire les temps de réaction et d'assurer une vitesse de dépôt fiable. Enfin, le système est équipé de diagnostics matériels automatisés qui fournissent aux utilisateurs une rétroaction immédiate sur les paramètres du processus et leur permettent d'optimiser leurs processus et d'effectuer les ajustements nécessaires. Quixace II ALD High-k est un four de diffusion avancé qui offre une plate-forme polyvalente, conviviale et fiable pour la croissance des films minces. Il est équipé d'une gamme de caractéristiques et d'accessoires tels qu'une unité de distribution de réactifs à deux étages, une machine à flux de gaz et un ordinateur logique programmable, qui contribuent tous à fournir des résultats cohérents et précis. Cette pièce d'équipement est un choix idéal pour ceux qui cherchent à effectuer de grands processus de dépôt fractionné au niveau de température le plus élevé.