Occasion KOKUSAI Quixace II ALD High-k #9196893 à vendre en France
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Vendu
ID: 9196893
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2012
Vertical LPCVD furnace, 12"
Model: DJ-1206VN-DF
Process: CG
System power rating: 480/120
Loading configuration: 5
System configuration:
Furnace unit
Valve box
Gas box
I/O Module
Operation box
Power box
Blower box
Currently installed
2012 vintage.
KOKUSAI Quixace II ALD High-k est un four de diffusion et des accessoires conçus pour les procédés de dépôt de couche atomique (ALD) à haute performance. Il supporte une gamme de fonctions de processus, y compris l'ALD renforcée par plasma et le dépôt linéaire de couches hautes de k. L'équipement combine une capacité de dépôt puissante et un contrôle des processus pour un traitement ALD efficace. La version high-k du four ALD Quixace II combine plasma et dépôt thermique pour créer des films high-k très conformes et denses avec une homogénéité exceptionnelle. La source de plasma autonome du système offre une énergie élevée pour un dépôt rapide et une excellente performance de gapfill. En outre, la chambre intégrée à température contrôlée assure un dépôt thermique uniforme en cas de besoin. Quixace II ALD High-k offre également un fonctionnement convivial avec son interface utilisateur graphique intuitive. Une unité de contrôle dynamique contrôle et optimise automatiquement les paramètres de dépôt en fonction de l'entrée de l'utilisateur. En outre, la machine offre plusieurs modes de chargement de plaquettes pour le chargement manuel ou de cassettes, et elle peut être équipée d'une source externe de plasma à distance, permettant des processus tels que pré-nettoyage ou RTO. KOKUSAI Quixace II ALD High-k dispose également d'un outil de purge indépendant et d'une chambre de procédé en acier inoxydable résistant à la corrosion pour une meilleure fiabilité. L'actif est équipé de diagnostics avancés, y compris un régulateur de débit massique, des jauges dédiées, des thermocouples, des spectromètres d'émission optique et des spectromètres de masse de dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD). En outre, une conception externe de mur chaud permet la visualisation directe des dépôts de plaquettes, ainsi qu'un moniteur à distance dédié pour une visualisation pratique et sûre. Pour la surveillance avancée des processus, le modèle Quixace II ALD High-k offre également une suite complète de métrologie et de contrôle numériques en temps réel. Dans l'ensemble, l'équipement ALD High-k de KOKUSAI Quixace II offre une haute performance ALD pour la production de films high-k uniformes avec une vitesse et une précision exceptionnelles. Il combine des technologies de pointe et une interface intuitive pour un fonctionnement simple et un contrôle complexe des processus. Ce système puissant fournit une plate-forme très fiable et conviviale pour augmenter la productivité sur le plancher de fabrication.
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