Occasion KOKUSAI Quixace II ALD Oxide #293600574 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 293600574
Vertical furnace.
KOKUSAI Quixace II ALD Oxyde est un four de diffusion avancé et des équipements accessoires pour le traitement thermique rapide des matériaux pour les applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Le système est basé sur un réacteur monobloc d'oxyde d'aluminium (Al2O3), permettant l'oxydation à basse température et le recuit de matériaux de plaquettes. Il est équipé d'un module de contrôle d'atmosphère automatisé et d'une chambre de pré-évaporation à haute température, offrant un contrôle de processus in situ très fiable sur toute l'opération. Le four avancé Quixace II ALD oxyde de diffusion dispose d'une unité de contrôle de température de précision, permettant des opérations thermiques précises et stables à travers une large gamme de températures. La température peut être réglée avec un haut niveau de précision, donnant des processus thermiques très reproductibles. La machine est conçue pour traiter jusqu'à 100 mm ou 200 mm de plaquettes, ce qui la rend idéale pour les applications à haut volume. KOKUSAI Quixace II ALD oxyde dispose également d'un faible débit, faible fuite sous vide, permettant une productivité plus élevée que les fours de diffusion classiques. L'actif est équipé d'un ensemble de capteurs, de sources d'énergie et de supports de substrat, offrant une flexibilité pour une gamme d'applications. En outre, le modèle est équipé d'un scanner à couche avancée qui surveille l'épaisseur et la structure cristalline de la couche en cours de traitement. Quixace II ALD oxyde comprend également un collecteur à vide, permettant une consommation plus faible et une meilleure répétabilité des processus. Cet équipement offre également un certain nombre de caractéristiques de sécurité, telles que des capteurs de température, des embrayages et l'arrêt d'urgence. KOKUSAI Quixace II ALD Oxyde est une plate-forme robuste et efficace pour le traitement thermique des matériaux, offrant un haut niveau de répétabilité des processus, de fiabilité et de sécurité. Les fonctionnalités avancées du système permettent aux utilisateurs d'atteindre un débit et une optimisation de processus élevés, ce qui améliore le rendement.
Il n'y a pas encore de critiques