Occasion KOKUSAI Quixace II ALD #293758335 à vendre en France

KOKUSAI Quixace II ALD est un four et un accessoire de diffusion de pointe conçu pour répondre aux besoins exigeants de l'industrie des semi-conducteurs. Cet outil innovant intègre la technologie avancée de dépôt de couche atomique (DAL), offrant une précision et un contrôle exceptionnels sur le processus de dépôt. Quixace II ALD fournit une plate-forme polyvalente pour le dépôt de couches minces avec une grande homogénéité et répétabilité, ce qui en fait un outil essentiel pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. L'une des caractéristiques clés du système ALD Quixace II de KOKUSAI réside dans ses capacités de traitement à haute température. Le four est équipé d'une unité de chauffage sophistiquée qui permet un contrôle précis de la température jusqu'à 1200 degrés Celsius. Cette plage de température élevée permet le dépôt d'une grande variété de matériaux en couches minces, y compris des oxydes, des nitrures et des métaux, avec une excellente qualité et uniformité de film. En plus de ses capacités de traitement à haute température, la machine ALD Quixace II offre également une gamme de modes de dépôt adaptés aux différentes exigences des matériaux. L'outil peut fonctionner à la fois en mode ALD thermique et en mode ALD plasmatique, permettant le dépôt de films aux propriétés et caractéristiques variables. La flexibilité de l'actif le rend bien adapté à une large gamme d'applications de semi-conducteurs, des dispositifs logiques et de mémoire à l'électronique de puissance et l'optoélectronique. Le modèle KOKUSAI Quixace II ALD est conçu pour une utilisation facile et à haut débit, avec des processus automatisés et des capacités de surveillance avancées. L'équipement est équipé d'une interface conviviale qui permet aux opérateurs de programmer facilement les recettes de dépôt, de surveiller les paramètres de processus en temps réel et d'analyser les données de processus pour le contrôle de la qualité et l'optimisation. Le haut degré d'automatisation intégré dans le système réduit le risque d'erreur humaine et assure des résultats de dépôt cohérents et fiables. En outre, l'unité ALD Quixace II est équipée d'une gamme d'accessoires et d'options pour améliorer ses performances et sa polyvalence. La machine peut être personnalisée avec différents systèmes de distribution de précurseurs, régulateurs de débit de gaz et systèmes de manutention de substrat pour répondre à des exigences de processus spécifiques. L'outil comprend également des techniques de surveillance in situ avancées, telles que l'ellipsométrie spectroscopique et la microbalance à cristaux de quartz, pour fournir une rétroaction en temps réel sur l'épaisseur du film, la composition et d'autres paramètres clés. Dans l'ensemble, KOKUSAI Quixace II ALD représente une solution de pointe pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des dépôts précis et uniformes de couches minces. Avec sa technologie de pointe, ses capacités de traitement à haute température et son interface conviviale, le modèle ALD Quixace II offre un contrôle et une flexibilité inégalés dans le dépôt de couches minces pour une large gamme d'applications de semi-conducteurs.