Occasion KOKUSAI Quixace II Anneal #293818330 à vendre en France

KOKUSAI Quixace II Anneal est le dernier équipement de four de diffusion et d'accessoires développé par KOKUSAI High-Tech Solutions. Il s'agit d'un dispositif de précision conçu pour des procédés thermiques haut de gamme tels que le recuit et la diffusion. Quixace II Anneal comprend deux composantes principales ; une chambre de four chauffée à 8 zones et un système facultatif de plaques réfrigérantes refroidies par liquide. Le réchauffeur à 8 zones assure un contrôle précis et une répartition uniforme de la température pour créer des résultats uniformes avec des propriétés cohérentes. L'unité de plaque de refroidissement fournit des cycles de refroidissement rapides qui permettent un contrôle précis du processus. KOKUSAI Quixace II Anneal est idéal pour une variété de procédés thermiques, tels que le recuit, la diffusion, la recristallisation, la croissance cristalline, et d'autres applications à haute température. Il utilise le chauffage RF et les sources d'énergie à plasma inductif (ICP), ce qui lui permet de fonctionner à des températures allant jusqu'à 2400 ° C et a une vitesse de chauffage rapide de 5 ° C/sec. Il utilise une structure en couches pour un traitement thermique efficace et est capable de contrôler le processus avec précision via cinq étages de mouvement dédiés. Cela permet un contrôle rapide et précis de la température, de la pression et de l'atmosphère, et surtout, une exécution rapide et efficace du processus. La machine comprend également un contrôleur intuitif, permettant une facilité d'utilisation. Il est équipé d'une interface Windows conviviale permettant la télécommande des processus principaux. Les menus multi-canaux, guidés par la voix et basés sur l'instruction rendent la programmation et les procédures d'exploitation simples et sans stress. Quixace II Anneal est conçu avec la sécurité et la commodité de l'opérateur à l'esprit. Il est équipé d'une série de cellules de suspension, d'interrupteurs à couvercle et à verrouillage, d'une coupure de courant d'urgence et d'un dispositif anti-étincelles pour protéger contre la surchauffe. L'outil à plaque de refroidissement refroidi par liquide stabilise efficacement la température de la chambre, et offre également des performances de procédé améliorées. De plus, le four dispose d'une vanne de commande à double gabarit montée sur chauffe, permettant un contrôle précis de la température zonale sur toute la gamme. KOKUSAI Quixace II Anneal est un atout avancé conçu pour un traitement thermique précis et précis. Il offre une précision de contrôle des processus, un débit élevé, une sécurité accrue, des températures uniformes, des coûts d'exploitation faibles et une longue durée de vie des appareils. C'est un outil idéal pour les processus thermiques tels que la diffusion, le recuit, la cristallisation et la croissance cristalline.