Occasion KOKUSAI Quixace II CURE #9351283 à vendre en France

KOKUSAI Quixace II CURE
ID: 9351283
Taille de la plaquette: 12"
Vertical furnace, 12".
KOKUSAI Quixace II CURE est un four de diffusion et un kit d'accessoires de pointe idéal pour les applications dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et la recherche et le développement en nanotechnologie. Il est conçu pour le chargement et l'indexation des plaques par lots afin de faciliter le chargement et le déchargement des pièces. Hébergeant une variété de caractéristiques hautes performances, Quixace II CURE est capable d'obtenir une homogénéité de température extrêmement précise dans toute la chambre, permettant un traitement de précision optimal comme l'oxydation thermique et le dépôt de dioxyde de silicium. KOKUSAI Quixace II CURE est conçu avec une chambre de travail modulaire qui peut accepter plusieurs cassettes de taille pour améliorer le débit de production. La chambre intérieure est construite en chauffage modulaire en graphite pour assurer un chauffage uniforme de la chambre. Le tempéré est surveillé par une lecture numérique, permettant des opérations automatisées et des contrôles de réglage complexes avec le contrôleur joint. L'équipement dispose également de gaz d'échappement embarqués pour gérer la contre-pression et l'accumulation de l'atmosphère de traitement. Des dispositifs de sécurité complets sont également intégrés, y compris la surveillance de la pression, la protection contre les températures excessives et l'enclenchement des alarmes pour l'arrêt rapide d'urgence du système. Quixace II CURE dispose d'une chambre Ashing monoplace en option avec une plaque de quartz enduite de silice et de titane pour faciliter le nettoyage et l'élimination des résidus. La Chambre Ashing est pressurisée pour protéger à la fois la chambre et la pièce contre le processus ashing, et elle est conçue pour maximiser l'uniformité et prévenir la distorsion. Il s'agit d'une unité de chargement efficace de l'ampoule à gaz, et les composants sont conçus pour minimiser les points de contact et réduire le déplacement manuel des composants du sous-système. KOKUSAI Quixace II CURE est un choix idéal lorsque le traitement de précision et le chauffage uniforme sont requis. Il est très avantageux de créer des structures complexes pour la R&D en nanotechnologie, ainsi que la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. C'est une machine extrêmement précise, et ses caractéristiques d'uniformité de température et de sécurité en font un choix privilégié pour toute application nécessitant des procédés thermiques de précision.
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