Occasion KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN #293666963 à vendre en France

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN est un four de diffusion et les accessoires associés conçus pour faciliter le dopage des films SiN pour l'utilisation dans les structures avancées d'affichage et d'imagerie. Cet équipement comporte une couche de film de nitrure de silicium de haute tolérance à la température et d'uniformité pour de multiples procédés de diffusion de dopants. Il dispose également d'une source de chaleur de 500 watts pour assurer un chauffage optimal de la couche de film. Ce four de diffusion et ses accessoires sont conçus pour une diffusion rapide et de haute précision des couches de contact. La conception avancée du système aide à réduire la diffusion des impuretés qui est essentielle pour maintenir les propriétés électriques de la couche de SiN. L'unité offre également un contrôle précis de la température et des cycles rapides de chauffage et de refroidissement. Quixace Ultimate ALD SiN est conçu pour les applications de semi-conducteur, d'affichage et d'imageur qui nécessitent une couche de film uniforme avec une excellente résistance à l'usure et à la contamination. Cet outil offre trois profils de température différents pour assurer la précision du processus de dopage. Il s'agit de biais vers l'avant, de biais inverse et de température rampante. Le profil de polarisation avant permet la montée en température la plus rapide pour les processus de température la plus élevée, tandis que la polarisation inverse permet un contrôle accru pour contrôler avec précision les couches de réactifs pour l'application de dopants. La caractéristique de la température ramassée permet une augmentation progressive de la température pour éviter les dommages au substrat. KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN propose également une variété d'accessoires conçus pour améliorer la précision du processus de dopage et assurer un traitement réussi. Il s'agit notamment d'un moniteur de pression et de micro-dispositifs de chauffage conçus pour contrôler avec précision les gradients thermiques et améliorer l'uniformité, ainsi que de l'outil de diagnostic ALD pour l'analyse quantitative et le diagnostic du profil dopant. Enfin, Quixace Ultimate ALD SiN est conçu pour un faible coût de propriété et une facilité d'exploitation. Une conception multi-chambres permet de traiter plusieurs plaquettes dans une seule ou double chambre sans utiliser de matériel supplémentaire. Une interface facile à utiliser fournit aux utilisateurs une interface intuitive et un contrôle de processus. Le modèle KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiN est une alternative pratique et économique pour le traitement dopant de films SiN dans une variété d'applications de semi-conducteurs, d'affichage et d'imagerie.