Occasion KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9203703 à vendre en France

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2
ID: 9203703
Taille de la plaquette: 12"
Vertical diffusion furnaces, 12".
KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 est un four de diffusion très avancé, conçu pour répondre aux exigences exigeantes de la fabrication d'appareils modernes. Il offre des performances de température supérieures, une homogénéité supérieure et une géométrie de chambre supérieure, le tout dans la plus petite chambre de son genre. L'ultime ALD SiO2 offre une excellente homogénéité thermique, avec une précision de température de 0,01 ° C Avec son équipement spécialisé de contrôle de processus, il peut gérer une gamme d'opérations comprenant CVD, ALD, et l'oxydation avancée. Sa géométrie de chambre unique permet également d'obtenir une excellente uniformité de film sur une grande surface. Sa cathode tournante révolutionnaire permet des électrodes uniformément réparties, permettant un dépôt de film rapide et cohérent. Le système de nettoyage automatique et un dispositif de mise à la terre augmentent encore sa fiabilité. Quixace Ultimate ALD SiO2 est un choix parfait pour les exigences les plus exigeantes des procédés de fabrication modernes. Le dispositif est livré avec un certain nombre de fonctionnalités avancées, telles qu'une unité de commande automatisée, une cathode tournante, une uniformité supérieure et un excellent contrôle thermique. Il est conçu de façon unique pour offrir une grande consistance et de faibles gradients thermiques. De plus, la géométrie de la chambre est conçue pour assurer une superbe homogénéité du film sur une grande surface. De plus, l'Ultimate ALD SiO2 est livré avec une machine propre efficace et un dispositif de mise à la terre. KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 est un outil idéal pour le processus avancé de fabrication d'appareils. Il offre un contrôle de température et une uniformité supérieurs et est le plus approprié pour les processus CVD et ALD. Sa géométrie de chambre unique permet également d'obtenir une excellente uniformité de film sur une grande surface. La cathode tournante permet des électrodes uniformément réparties et l'outil CLEAN-IN-PLACE assure une hygiène maximale. Cet actif avancé garantit un processus fiable et sans problème pour la fabrication des appareils.
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