Occasion KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9208965 à vendre en France

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 est un four de diffusion avancé avec des accessoires spécialement conçus pour le dépôt en couche atomique (ALD) de couches minces de dioxyde de silicium (SiO2). Cet équipement fournit un procédé fiable et reproductible pour le dépôt de couches minces diélectriques de haute qualité sur une gamme de substrats. Le four de diffusion comprend une chambre à haute température avec une gamme de réglages de température et un bras rotatif pour même l'évaporation du matériau, ainsi qu'un système de distribution de gaz qui permet un contrôle précis du débit et de la pression. Le kit d'accessoires fournit tous les composants nécessaires pour ALD efficace de SiO2, tels qu'une chambre de réaction en alumine, un porte-plaquettes, un creuset en quartz et des capteurs de température. De plus, l'unité ultime ALD SiO2 comprend des paramètres de processus détaillés et des recettes, ainsi qu'un support pour le fonctionnement manuel, permettant un contrôle complet du processus ALD. Le creuset en quartz permet aux utilisateurs de déposer des films avec une excellente homogénéité, fournissant des résultats cohérents d'une plaquette à l'autre. Le porte-plaquettes et les paniers structurés assurent une uniformité de délivrance lors des processus d'évaporation, assurant un dépôt régulier de matière sur toute la surface du substrat. La chambre de réaction en alumine assure une exposition automatisée au mélange gazeux désiré pour le processus ALD, créant ainsi un film mince à base de silice de haute qualité. La pression, la température et le mélange gazeux peuvent tous être ajustés avec les commandes sensibles de la machine, ce qui permet d'optimiser les propriétés et le débit du film. L'outil Quixace Ultimate ALD SiO2 répond aux besoins des applications en laboratoire et à l'échelle de la production. Même dans les applications industrielles les plus difficiles, l'actif ultime ALD SiO2 offre une répétabilité élevée, un excellent contrôle du procédé et un contrôle total du processus de dépôt. Associé à ses caractéristiques de sécurité complètes, le modèle ultime ALD SiO2 est un choix idéal pour ceux qui recherchent une méthode efficace et économique de dépôt de couches minces diélectriques.