Occasion KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 #9372767 à vendre en France

KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 est un four avancé de dépôt de couche atomique (ALD) conçu pour déposer des films ultrathéniques de dioxyde de silicium (SiO2) pour une large gamme d'applications. Il est bien adapté aux clients qui ont besoin de films minces de haute qualité, une productivité élevée et une excellente uniformité. Cet équipement est un choix idéal pour les dispositifs semi-conducteurs, MEMS, photovoltaïques, microfluidiques et d'affichage. Quixace Ultimate ALD SiO2 est équipé d'une chambre multi-zones de pointe, permettant un contrôle précis et uniforme de la température dans toute la zone de dépôt. Ceci permet d'assurer une épaisseur de film très constante à travers le substrat, même lorsque l'on utilise des matériaux très différents dans leur réactivité. Le système dispose également de positions d'entrée et de sortie dédiées qui contrôlent le temps de purge et la pression de la chambre. Ces caractéristiques permettent à l'unité de manipuler des précurseurs à base d'hydrogène et de chlore avec un temps de récupération rapide et un faible dépôt de méthane. La machine KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 présente une exceptionnelle uniformité de sous-7 nm d'épaisseur sur de grandes plaquettes. Il utilise également une fréquence de 400 Hz pour un temps de dépôt prolongé, ce qui lui donne un débit plus élevé que les autres systèmes. En outre, il a assez de place pour accueillir de grands substrats, jusqu'à 8 "de diamètre. Cela le rend adapté à la production en grand volume de dispositifs sur des substrats à grande échelle. Les fonctions de contrôle de processus auto-optimisées du Quixace fournissent aux utilisateurs des données en temps réel et des commentaires sur les paramètres de processus, garantissant ainsi la cohérence des films de haute qualité. Cet outil est également conçu pour minimiser les fuites de gaz dangereux, prévenir la pollution de l'environnement et protéger la sécurité des opérateurs. En plus de l'actif Quixace Ultimate ALD SiO2, KOKUSAI propose également un certain nombre d'add-ons optionnels. Il s'agit notamment d'accessoires tels qu'un pyromètre, une cassette à quartz et un porte-substrat, une alimentation RF, un générateur de tension ionisante et un porte-substrat tournant. Ensemble, ils fournissent aux utilisateurs une solution complète qui répond aux besoins de toute application ALD. KOKUSAI Quixace Ultimate ALD SiO2 est un produit avancé et le meilleur modèle de sa catégorie. Il a été conçu pour fournir aux utilisateurs des procédés de dépôt d'ALD fiables et très efficaces. C'est un excellent choix pour les clients qui ont besoin de films minces de haute qualité avec une excellente uniformité et un temps de dépôt rapide. Complet avec ses add-ons optionnels, le Quixace Ultimate ALD SiO2 est parfait pour toute application ALD avancée.