Occasion LEAD ENGINEERING VULCAN-V81M #293813104 à vendre en France

LEAD ENGINEERING VULCAN-V81M est un four de diffusion de pointe conçu pour répondre aux exigences les plus exigeantes de l'industrie des semi-conducteurs. Cet équipement performant est utilisé pour le traitement thermique de plaquettes de silicium et autres substrats dans une atmosphère contrôlée pour réaliser des procédés de dopage et de recuit précis essentiels à la réalisation de dispositifs semi-conducteurs avancés. VULCAN-V81M présente une construction robuste avec un tube de procédé en quartz de haute pureté capable de résister à des températures élevées jusqu'à 1250 ° C Le système est équipé d'un four horizontal de conception avancée qui assure une répartition uniforme de la température sur la surface de la plaquette, minimisant les variations du profil de dopage et améliorant les performances du dispositif. Le four de diffusion est intégré à une unité de distribution de gaz sophistiquée qui permet un contrôle précis des paramètres du processus, tels que les débits de gaz, le profil de température et les niveaux de pression. La machine est équipée de multiples entrées de gaz pour faciliter l'introduction de gaz dopants, d'agents oxydants et de gaz inertes nécessaires à des processus thermiques spécifiques. LEAD ENGINEERING VULCAN-V81M est équipé d'un régulateur de débit massique de précision (MFC) pour chaque entrée de gaz, permettant à l'utilisateur de régler et de maintenir avec précision les débits de gaz désirés tout au long du processus de diffusion. L'outil dispose également d'une pompe à vide haute performance pour l'évacuation rapide du tube et de la chambre de procédé, assurant un environnement de processus propre et stable avec une contamination minimale. Le four de diffusion est contrôlé par une interface conviviale qui offre des capacités de programmation avancées pour définir et exécuter des recettes de traitement thermique complexes. L'actif peut stocker plusieurs recettes de processus, permettant une configuration rapide et facile de différents profils de dopage et de recuit adaptés aux exigences spécifiques des appareils. En plus de ses capacités avancées de traitement thermique, VULCAN-V81M est conçu pour un entretien facile et la fonctionnalité, avec des panneaux d'accès rapide pour le remplacement facile des pièces consommables et le nettoyage de routine. Le modèle est également équipé de dispositifs de sécurité avancés, y compris des systèmes de surveillance de la température et d'alarme pour assurer un fonctionnement sûr en tout temps. LEAD ENGINEERING VULCAN-V81M est un four de diffusion polyvalent qui peut accueillir différentes tailles et formes de plaquettes, ce qui le rend adapté à une large gamme d'applications de fabrication de semi-conducteurs. L'équipement peut être facilement intégré dans les lignes de production existantes ou utilisé comme outil autonome pour les activités de recherche et de développement. Dans l'ensemble, VULCAN-V81M établit une nouvelle norme pour les fours de diffusion, offrant des performances élevées, un contrôle de précision et une fiabilité pour les applications de traitement des semi-conducteurs les plus exigeantes. Ses caractéristiques avancées et sa conception conviviale en font un choix idéal pour les fabricants qui cherchent à obtenir des résultats cohérents et de haute qualité dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.