Occasion SVG / THERMCO / AVIZA VTR 7000 #9398904 à vendre en France

SVG / THERMCO / AVIZA VTR 7000
ID: 9398904
Furnace Wafer processing.
SVG/THERMCO/AVIZA VTR 7000 est un four de diffusion et un système accessoire fiable et polyvalent. Il est spécialement conçu pour déposer rapidement et précisément des couches diélectriques à haute température et très minces sur une grande variété de couches uniformes de spin-on. Ce four de diffusion est couramment utilisé dans les industries du semi-conducteur, du photovoltaïque, du LED, de l'emballage LED et du revêtement optique. SVG VTR 7000 est une configuration de chambre modulaire fermée et ventilée. Il offre quatre chambres de processus d'environnement contrôlé, et chaque chambre peut contrôler indépendamment chacune des étapes de processus. Les quatre chambres sont la chambre de préchauffage, la chambre de recuit, la chambre de diffusion et la chambre de nitrure. La configuration de la chambre est conçue pour réduire l'exposition aux composés organiques volatils (COV) et fournir un environnement de travail sécuritaire. La chambre de préchauffage de l'AVIZA VTR 7000 est conçue pour la préoxydation et la diffusion, avec une plage de température de 350-800 ° C (662-1472 ° F). Cette chambre est utilisée pour fournir l'environnement nécessaire à la préparation de surface et au prétraitement, avant toute étape de procédé. Dans cette chambre, le substrat est chauffé rapidement et uniformément sur toute la surface. La chambre de recuit est conçue pour le recuit thermique et l'oxydation de surface, avec une plage de température de 350-900 ° C (662-1662 ° F). Cette chambre sert à régler la température de la plaquette et à initier les procédés suivants. Cette Chambre permet également d'améliorer l'homogénéité de l'oxydation et d'augmenter la stabilité des contraintes d'oxydation. La chambre de diffusion est conçue pour l'oxydation et la diffusion de la dérive, avec une plage de température de 400-980 ° C (752-1796 ° F). Cette chambre crée un environnement de gradient basse pression, en utilisant des combinaisons de gaz inerte et de gaz inerte pour déposer des couches diélectriques. Il crée également l'environnement nécessaire à l'oxydation par dérive et à la diffusion d'espèces dopantes dans les couches de silicium. La chambre de nitrure est conçue pour le recuit de nitrure et la protection de surface, avec une plage de température de 400-950 ° C (752-1742 ° F). Cette chambre réalise un recuit de nitrure d'oxydation après dérive et protège la surface d'une oxydation ultérieure. THERMCO VTR 7000 fournit un débit total de 1400 substrats par heure, une uniformité de ± 2 % (1 σ écart unique) d'épaisseur de film sur une plaquette de 4 pouces, et est capable de déposer des couches très minces (jusqu'à 25 nm). Le système est également équipé de plateaux de transfert de plaquettes automatiques, d'une fonction de refroidissement rapide, d'une mesure automatique de la résistance et de la possibilité de se connecter à un PC pour l'enregistrement des données. Ce four de diffusion et ce système d'accessoires fiables, rentables et performants est indispensable pour tout environnement de traitement moderne. Avec son contrôle serré des processus et ses capacités de débit total, VTR 7000 est un excellent dispositif de diffusion pour une variété d'applications.
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