Occasion TEL / TOKYO ELECTRON A303i #9261571 à vendre en France

TEL (TOKYO ELECTRON) TEL/TOKYO ELECTRON A303i four de diffusion est un outil spécialisé de fabrication de semi-conducteurs conçu pour déposer des films épitaxiés sur des substrats de silicium. Il est couramment utilisé par les fabricants de puces dans la fabrication de microprocesseurs et d'autres composants électroniques. TEL A303i possède une chambre thermique à haute température, qui est entourée par un panneau de chauffage en céramique résistant à la chaleur. A l'intérieur de la chambre thermique, un creuset chauffé est utilisé pour diffuser le matériau déposé. Le substrat est placé dans le noyau de la chambre thermique, et chauffé uniformément par le panneau de chauffage céramique. De plus, la fonction de régulation de température multi-zones permet l'uniformité et la stabilité de la température sur toute la surface du substrat. La plage de température de TOKYO ELECTRON A 303 I est de 300-1400 ° C, et la température peut être contrôlée dans ± 1 ° C TEL/TOKYO ELECTRON A 303 I dispose également d'un régulateur automatique de débit massique (MFC) intégré, permettant l'acheminement précis des gaz réactifs vers le creuset chauffé. Le MFC régule la quantité de gaz réactif qui est envoyée à la chambre, assurant la répétabilité et la précision du processus de dépôt de la couche épitaxiale. De plus, la pression à l'intérieur de la chambre peut être contrôlée avec précision avec la pompe à vide intégrée. Afin d'assurer un processus de dépôt de couche épitaxiée uniforme et de haute qualité, TOKYO ELECTRON A303i est équipé d'un équipement avancé de douche à gaz. Ce système se compose de deux conduites de gaz indépendantes, avec des pressions de douche réglables. Ceci assure une épaisseur de couche uniforme et une répartition uniforme des gaz sur le substrat. De plus, l'A 303 I est équipé de plusieurs dispositifs de sécurité, tels que des alarmes de surpression et de surpression. Il comprend également une unité de surveillance en temps réel qui fournit des données sur les performances du processus de dépôt, y compris le débit de gaz et la température. Cette fonctionnalité permet un meilleur contrôle et une meilleure régulation des processus. En résumé, TEL A 303 I four de diffusion est un outil spécialisé de fabrication de semi-conducteurs qui est adapté pour réaliser des couches épitaxiées de haute qualité sur des substrats de silicium. Il est équipé d'une douche à gaz avancée et d'une fonction de régulation de température multi-zones, permettant des processus de dépôt de couche précis et reproductibles. De plus, les caractéristiques de sécurité intégrées garantissent une sécurité maximale pour les utilisateurs.