Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293606613 à vendre en France

ID: 293606613
LPCVD Furnace.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est un four à diffusion et un accessoire développé par TEL (TOKYO ELECTRON Limited), une société leader mondiale qui produit des équipements de production de semi-conducteurs. Cet équipement a été spécialement conçu pour les procédés CVD (Chemical Vapour Deposition) de four sous vide, offrant une productivité élevée et des performances supérieures dans une conception compacte et peu coûteuse. Le four de diffusion TEL ALPHA 303IK est équipé d'un contrôleur logique programmable (PLC) à 3 zones pour contrôler les fonctions automatiques. Le four a une température de fonctionnement allant de 800 ° C à 1400 ° C (1472 ° F à 2552 ° F), avec une précision de température du substrat de ± 2 ° C à 1100 ° C (2012 ° F) et une uniformité de ± 10 ° C dans une seule zone. Le four de diffusion fournit un mouvement de suscepteur vertical, un grand volume de travail, et l'uniformité, ce qui le rend idéal pour les grands processus de wafer. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K est également équipé d'accessoires matériels supplémentaires pour améliorer sa fonctionnalité. Ces accessoires comprennent un plateau de suscepteur incliné, des régulateurs de débit, une jauge ionique, un régulateur de débit massique, un système de purge et une unité de refroidissement indépendante. Le plateau de suscepteur incliné assure l'uniformité du processus tandis que les régulateurs de débit assurent un débit continu de jusqu'à quatre gaz. La jauge ionique est utilisée pour mesurer avec précision le niveau de particules de gaz dans la chambre du four. Le régulateur de débit massique est utilisé pour contrôler précisément le débit de gaz et la pression, tandis que la machine de purge augmente la propreté de la chambre. L'outil de refroidissement indépendant aide à refroidir le chauffage et à arrêter le processus une fois la température désirée atteinte. En plus de fournir des capacités de diffusion améliorées, TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303IK offre également des caractéristiques de sécurité supérieures. Le four est conçu avec un couvercle emboîté, un interrupteur d'urgence et un actif d'alimentation en gaz inerte, qui assure la sécurité des opérateurs pendant l'utilisation. Le four de diffusion ALPHA 303IK combine commodité, sécurité et précision dans une conception petite et économique. C'est un choix idéal pour de nombreuses applications de semi-conducteurs, allant de la diffusion de composés pour la fabrication d'IC au dépôt de films et de polymères pour la nanotechnologie.
Il n'y a pas encore de critiques