Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293606624 à vendre en France

ID: 293606624
Style Vintage: 2005
LPCVD Furnace 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est un four de diffusion et un accessoire pour des applications de recherche et développement. C'est une plate-forme thermiquement stable pour le traitement avancé des semi-conducteurs. Le four a une pression de travail de 300 Torr et une température maximale de fonctionnement de 2000 ° C Il est équipé de dispositifs de sécurité avancés, tels qu'une fenêtre en quartz BN55 magnétiquement améliorée, une vanne de coupure thermique hydrogène/argon et un système de thermographie infrarouge pour la détection de température. TEL ALPHA 303IK offre une taille de plaquette standard de 6 pouces et une épaisseur de plaquette maximale de 2000 µm. Il a une zone chaude en quartz avec une doublure en alumine et peut accueillir jusqu'à trois morceaux de quartz à l'intérieur de la chambre. Le système permet le chauffage latéral de la plaquette via une plaque chauffante diélectrique et dispose d'un contrôleur d'étage à deux canaux µW. Le four est capable de contrôler jusqu'à 24 quartz. Il est également équipé de capacités avancées de mesure et de contrôle de la température. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K a un temps de traitement standard de 10 minutes pour chauffer jusqu'à une température donnée. Le four peut accepter des plaquettes de tailles et de formes variables, permettant l'optimisation des procédés. Il comprend également une vanne ICV à haut rendement, un système de refroidissement de l'air et un détecteur de chauffage. ALPHA 303 I K convient pour des procédés à basse température, tels que la croissance diélectrique de l'oxyde et la formation de contacts. Il est également idéal pour les procédés à haute température, tels que le recuit et la métallisation. Il a la capacité d'être exploité en mode entièrement automatisé et de télécharger des recettes personnalisées dans le langage de programmation TEL de l'entreprise. ALPHA 303IK est un outil fiable et polyvalent pour les applications avancées de traitement des semi-conducteurs. Ses caractéristiques de sécurité intégrées garantissent un fonctionnement sûr et sa conception à faible entretien offre des rendements plus élevés et des coûts d'exploitation moins élevés. Ses capacités avancées de régulation de température et de mesure en font un choix idéal pour tout laboratoire de recherche et développement.
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