Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293606627 à vendre en France

TEL/TOKYO ELECTRON Le four et les accessoires de diffusion Alpha 303i-K est un appareil complet qui fournit une solution économique et fiable pour la production de dispositifs semi-conducteurs. Avec une large gamme d'options et de configurations, TEL ALPHA 303IK four de diffusion et accessoires peuvent répondre à des exigences de processus spécifiques. L'équipement automatisé complet d'alimentation en gaz et la capacité d'assistance à distance en font un outil efficace et fiable pour la production d'appareils. Le four de diffusion TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K offre une large gamme de plages de température de fonctionnement avec un maximum de 1250 ° C Il peut être utilisé avec une variété de gaz précurseurs, permettant un contrôle précis des concentrations de gaz diffusés et du taux d'atomisation. Il est équipé d'un système de régulation de la température de la zone de chauffage de haute précision qui permet une réponse rapide au temps de chauffage et de refroidissement. De plus, le four est conçu pour le chargement et le déchargement rapides des plaquettes. Son unité gazeuse automatisée permet un contrôle précis des phases gazeuses de divers précurseurs tels que le silicium et le germanium. La machine à gaz est capable de contrôler avec précision les débits de jusqu'à 10 précurseurs et un outil de surveillance des gaz résiduels pour garantir la sécurité et des résultats précis du processus. De plus, l'actif gazeux automatisé est équipé d'un dispositif d'étalonnage interne, d'un modèle de contrôle de la pression et d'un équipement complet de diagnostic pour la détection automatique des erreurs et autres dysfonctionnements. Le four de diffusion TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K et ses accessoires offrent également des fonctions supplémentaires telles que le support à distance, le contrôle de l'uniformité de température et le profilage automatique de température. Le système de contrôle de l'homogénéité de la température assure une grande stabilité de la température dans toute la zone du four. De plus, l'unité de profilage automatisé de température fournit une température uniforme à travers la plaquette. Ces fonctions aident à maintenir des résultats cohérents pendant le processus de concentration des gaz diffusés. Le four de diffusion ALPHA 303IK et ses accessoires comprennent également des capacités de processus étendues telles que l'oxydation par résonance cyclotron électronique (ECR), le dopage par résonance électron-cyclotron en silicium polycristallin et le dépôt de couche atomique (ALD). La machine d'oxydation ECR utilise un signal à haute fréquence (bande L) pour produire des radicaux d'oxygène pour les processus d'oxydation et de diffusion. L'outil de dopage par résonance électron-cyclotron en silicium polycristallin est un processus en deux étapes qui consiste en une définition du motif suivie d'une implantation ionique négative. L'actif ALD vaporise les précurseurs et dépose la matière sur la plaquette par un laser pulsé. Dans l'ensemble, TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K four et accessoires de diffusion est un dispositif complet et sûr pour la production de semi-conducteurs rentable. Il offre une large gamme de capacités de température, de gaz et de processus pour répondre à des exigences de processus spécifiques. En outre, il est équipé d'une livraison automatisée de gaz, d'un support à distance, d'un profilage de température précis et de capacités de processus étendues. Ceci en fait un choix idéal pour la production de dispositifs semi-conducteurs et le support de processus.