Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293608018 à vendre en France
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ID: 293608018
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
LPCVD Furnace, 12"
Process: PIQ
(100) Process wafers
I/O Port / SMIF: FOUP
No load lock
25-Carrier slots
Boat type: Single
WAVES System controller
Operation screen: Touch screen
Gas flow chart: Front and rear
M560 Temperature controller
Vacuum pressure control: CKD VEC
Controller transformer: 208 V, Single phase
Heater transformer: 208 V, 3 Phase
Oxygen analyzer
RCU
Process gasses:
N2
O2
Gas distribution:
Basic style: Conventional
Tubing material: SUS-316L
Tubing finish: VCR
Air operated valve: FUJIKIN
MFC: STEC
Exhaust distribution:
Air operated valve type: IGS Connect
Wafer / Cassette handling:
(16) Cassette storage
Cassette In/Out port
Cassette handling robot
Wafer transfer type: 1 + 4
(5) Forks
Fork material: AL2O3
Fork variable pitch
Fork wafer presence sensor
Elevator handling:
Boat elevator
Auto shutter
Boat rotation
Spare parts
Heating chamber:
Heater type: VMM-56-201
(5) T/C Type
(5) Spike T/C
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est un four de diffusion avancé et un outil essentiel pour la recherche, la production et le contrôle de la qualité dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour créer des profils dopants précis et uniformes et prévenir les fuites électriques pendant le traitement. Ce four est spécialement conçu pour le dépôt de couches de silicium sur isolant (SOI) et est très adapté à l'ingénierie de déformation, au dépôt multicouche et à la réalisation de dispositifs semi-conducteurs performants. TEL ALPHA 303IK dispose d'une plage de température de 200-1200 ° C avec un équipement de chauffage avancé, qui assure une répartition uniforme et précise des températures. Il est également équipé d'un refroidisseur thermoélectrique en boucle fermée (TEC) pour contrôler avec précision la température du substrat pendant le traitement. Le contrôleur de chauffage avancé dispose d'une faible consommation d'énergie, permettant d'améliorer les performances du système de chauffage. De plus, l'unité unique de vérification des dopants au niveau des plaquettes assure une surveillance précise du processus, même lorsque des variations au niveau des plaquettes sont présentes. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K contient une machine avancée de dispersion de gaz à flux forcé, qui assure une distribution uniforme et précise du gaz. Cet outil contribue à maintenir l'uniformité des dépôts chimiques en phase vapeur (CVD) et d'autres procédés en minimisant les fluctuations des concentrations de gaz le long du substrat. Outre le four de diffusion, il existe également divers accessoires, tels que des éléments chauffants à quartz, des moteurs de convoyage manuel et automatique et un mandrin de plaquette. Ces accessoires permettent un traitement efficace et une faible contamination. ALPHA 303IK dispose également d'un système de refroidissement flexible pour le refroidissement rapide et la stabilisation des matériaux semi-conducteurs. Son modèle autofluide gère efficacement les températures et assure une uniformité thermique au niveau des plaquettes tout au long du processus de refroidissement. En outre, son équipement de ventilation sous vide intelligent primé favorise un fonctionnement efficace et empêche l'accumulation de pression dans la chambre de processus. ALPHA 303 I K est conçu pour un fonctionnement sûr et fiable ; il comprend un certain nombre de dispositifs de sécurité tels que l'arrêt d'urgence et les emboîtements. En outre, le four est équipé d'une interface graphique intuitive, qui permet une programmation et un fonctionnement faciles. Dans l'ensemble, Alpha 303i-K est un four de diffusion avancé et très fiable conçu pour répondre aux exigences de la recherche et de la production de semi-conducteurs.
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