Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #293608018 à vendre en France

ID: 293608018
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
LPCVD Furnace, 12" Process: PIQ (100) Process wafers I/O Port / SMIF: FOUP No load lock 25-Carrier slots Boat type: Single WAVES System controller Operation screen: Touch screen Gas flow chart: Front and rear M560 Temperature controller Vacuum pressure control: CKD VEC Controller transformer: 208 V, Single phase Heater transformer: 208 V, 3 Phase Oxygen analyzer RCU Process gasses: N2 O2 Gas distribution: Basic style: Conventional Tubing material: SUS-316L Tubing finish: VCR Air operated valve: FUJIKIN MFC: STEC Exhaust distribution: Air operated valve type: IGS Connect Wafer / Cassette handling: (16) Cassette storage Cassette In/Out port Cassette handling robot Wafer transfer type: 1 + 4 (5) Forks Fork material: AL2O3 Fork variable pitch Fork wafer presence sensor Elevator handling: Boat elevator Auto shutter Boat rotation Spare parts Heating chamber: Heater type: VMM-56-201 (5) T/C Type (5) Spike T/C 2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est un four de diffusion avancé et un outil essentiel pour la recherche, la production et le contrôle de la qualité dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour créer des profils dopants précis et uniformes et prévenir les fuites électriques pendant le traitement. Ce four est spécialement conçu pour le dépôt de couches de silicium sur isolant (SOI) et est très adapté à l'ingénierie de déformation, au dépôt multicouche et à la réalisation de dispositifs semi-conducteurs performants. TEL ALPHA 303IK dispose d'une plage de température de 200-1200 ° C avec un équipement de chauffage avancé, qui assure une répartition uniforme et précise des températures. Il est également équipé d'un refroidisseur thermoélectrique en boucle fermée (TEC) pour contrôler avec précision la température du substrat pendant le traitement. Le contrôleur de chauffage avancé dispose d'une faible consommation d'énergie, permettant d'améliorer les performances du système de chauffage. De plus, l'unité unique de vérification des dopants au niveau des plaquettes assure une surveillance précise du processus, même lorsque des variations au niveau des plaquettes sont présentes. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K contient une machine avancée de dispersion de gaz à flux forcé, qui assure une distribution uniforme et précise du gaz. Cet outil contribue à maintenir l'uniformité des dépôts chimiques en phase vapeur (CVD) et d'autres procédés en minimisant les fluctuations des concentrations de gaz le long du substrat. Outre le four de diffusion, il existe également divers accessoires, tels que des éléments chauffants à quartz, des moteurs de convoyage manuel et automatique et un mandrin de plaquette. Ces accessoires permettent un traitement efficace et une faible contamination. ALPHA 303IK dispose également d'un système de refroidissement flexible pour le refroidissement rapide et la stabilisation des matériaux semi-conducteurs. Son modèle autofluide gère efficacement les températures et assure une uniformité thermique au niveau des plaquettes tout au long du processus de refroidissement. En outre, son équipement de ventilation sous vide intelligent primé favorise un fonctionnement efficace et empêche l'accumulation de pression dans la chambre de processus. ALPHA 303 I K est conçu pour un fonctionnement sûr et fiable ; il comprend un certain nombre de dispositifs de sécurité tels que l'arrêt d'urgence et les emboîtements. En outre, le four est équipé d'une interface graphique intuitive, qui permet une programmation et un fonctionnement faciles. Dans l'ensemble, Alpha 303i-K est un four de diffusion avancé et très fiable conçu pour répondre aux exigences de la recherche et de la production de semi-conducteurs.
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