Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9373155 à vendre en France
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ID: 9373155
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Vertical LPCVD furnace, 12"
Process: TEOS
(100) Process wafers
I/O Port / SMIF: FOUP
No load lock
25-Carrier slots
Boat type: Single
Main controller (WAVES)
Operation screen: Touch screen
Gas flow chart: Front and rear
M560 Temperature controller
Vacuum pressure control: CKD VEC
Controller transformer: 208 V, Single phase
Heater transformer: 208 V, 3 Phase
Gases:
Gas 1: N2
Gas 2: N2
Gas 3: O2
Gas 4: TEOS
Gas 5: N2
Gas distribution:
Basic style: Conventional
Tubing material: SUS-316L
Tubing finish: VCR
Manual valve: CKD
Air operated valve: CKD
MFC: HORIBA STEC
Exhaust distribution:
Air operated valve type: IGS Connect
Main valve: CKD VEC
Cold trap
No pump line
Wafer / Cassette handling:
(16) Cassette storage
Cassette In/Out port
Cassette handling robot
Wafer transfer type: 1 + 4
Fork material: AL2O3
Fork variable pitch
Fork wafer presence sensor
Elevator handling:
Boat elevator
Auto shutter
Boat rotation
Mechanical parts
Heating chamber:
Heater type: VMM-56-002, 100 wfs
(5) T/C Type
(5) Spike T/C
Furnace cabinets includes clean air flow system
Scavenger and water cooling unit
Power supply unit (U/P Box):
Control unit
Transformers
SCR
Breaker unit
FOUP and wafer handling automation:
(2) FOUP Load ports
FOUP Transfer
Stocker: (18) FOUPs
FIMS Port
KHI Wafer load automation
Variable pitch change mechanism with (5) forks
Auto tube shutter
Boat elevator with boat rotation mechanism
Integrated gas system in gas cabinet and TEOS LSC baking system:
O2 Gas line
TEOS Gas line
Purge N2
Vacuum vent
Exhaust vent
Piping tape heater
Main valve type: CKD Hot, P/N: VEC-VH8G-X0101
Vacuum gage
Pressure switch
Piping: 100 A VAC
Does not include:
Outer/Inner T/C
N2 Load lock
N2 Boat cooling shower
Dual boat operation
B.S Sensor: 0-10 Torr, 0-1000 Torr
Cable length: 12 m (Power box)
AC Power box: 208V,3 Phase, 4 Wires
2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est un four de diffusion avancé et un équipement d'accessoires permettant aux clients d'effectuer un traitement de fabrication de semi-conducteurs de haute qualité, peu coûteux et à haut débit. Le système comprend un four à une seule zone, une unité de distribution de gaz, un chargeur de plaquettes embarqué, un bras de transfert automatisé de plaquettes et un contrôleur. Le four monocouche utilise des tubes à quartz à faible vitesse et à faible expansion pour répondre aux exigences de diffusion des composants et améliorer l'uniformité thermique et la stabilité de la température des plaquettes. Avec une température maximale de travail de 1 100 ° C (2 012 ° F), TEL ALPHA 303IK est bien adapté aux couches diélectriques et métallisées et aux procédés connexes. En outre, la machine dispose d'un outil innovant de stagnation des gaz de l'atmosphère protectrice, qui permet d'assurer un débit et une réponse cohérents, permettant une performance optimale avec une large gamme de gaz. Le chargeur de plaquettes embarqué offre un moyen efficace et automatisé d'alimenter les plaquettes rapidement et de façon fiable. Avec sa grande capacité et ses multiples options de charge, TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K est bien équipé pour gérer une variété de tailles de plaquettes et de substrats. Combiné au bras de transfert automatisé des plaquettes, ALPHA 303IK élimine le besoin de manutention manuelle des plaquettes et améliore les temps de débit. Le modèle est facile à utiliser et à entretenir, avec un contrôleur avec des menus intuitivement conçus et des fenêtres pour une meilleure utilisabilité. Le contrôleur offre des paramètres de contrôle tels que les réglages de rampe et de trempe, les paramètres de fonctionnement du four et les réglages de livraison de gaz. En outre, le contrôleur peut être interfacé avec un PC externe pour permettre la surveillance et l'évaluation à distance des données de processus, assurant la performance et la fiabilité du processus. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est la solution ultime pour les clients qui ont besoin d'un four de diffusion et d'accessoires efficaces et économiques. Le système comprend un four monocouche, un bras de transfert automatisé de plaquettes, un chargeur de plaquettes embarqué, une unité de stagnation des gaz de l'atmosphère protectrice et un contrôleur intuitif. Entièrement automatisé, convivial et avec des performances fiables, TEL ALPHA 303 I K est le choix idéal pour des procédés de fabrication de semi-conducteurs exigeants.
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