Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9373155 à vendre en France

ID: 9373155
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Vertical LPCVD furnace, 12" Process: TEOS (100) Process wafers I/O Port / SMIF: FOUP No load lock 25-Carrier slots Boat type: Single Main controller (WAVES) Operation screen: Touch screen Gas flow chart: Front and rear M560 Temperature controller Vacuum pressure control: CKD VEC Controller transformer: 208 V, Single phase Heater transformer: 208 V, 3 Phase Gases: Gas 1: N2 Gas 2: N2 Gas 3: O2 Gas 4: TEOS Gas 5: N2 Gas distribution: Basic style: Conventional Tubing material: SUS-316L Tubing finish: VCR Manual valve: CKD Air operated valve: CKD MFC: HORIBA STEC Exhaust distribution: Air operated valve type: IGS Connect Main valve: CKD VEC Cold trap No pump line Wafer / Cassette handling: (16) Cassette storage Cassette In/Out port Cassette handling robot Wafer transfer type: 1 + 4 Fork material: AL2O3 Fork variable pitch Fork wafer presence sensor Elevator handling: Boat elevator Auto shutter Boat rotation Mechanical parts Heating chamber: Heater type: VMM-56-002, 100 wfs (5) T/C Type (5) Spike T/C Furnace cabinets includes clean air flow system Scavenger and water cooling unit Power supply unit (U/P Box): Control unit Transformers SCR Breaker unit FOUP and wafer handling automation: (2) FOUP Load ports FOUP Transfer Stocker: (18) FOUPs FIMS Port KHI Wafer load automation Variable pitch change mechanism with (5) forks Auto tube shutter Boat elevator with boat rotation mechanism Integrated gas system in gas cabinet and TEOS LSC baking system: O2 Gas line TEOS Gas line Purge N2 Vacuum vent Exhaust vent Piping tape heater Main valve type: CKD Hot, P/N: VEC-VH8G-X0101 Vacuum gage Pressure switch Piping: 100 A VAC Does not include: Outer/Inner T/C N2 Load lock N2 Boat cooling shower Dual boat operation B.S Sensor: 0-10 Torr, 0-1000 Torr Cable length: 12 m (Power box) AC Power box: 208V,3 Phase, 4 Wires 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est un four de diffusion avancé et un équipement d'accessoires permettant aux clients d'effectuer un traitement de fabrication de semi-conducteurs de haute qualité, peu coûteux et à haut débit. Le système comprend un four à une seule zone, une unité de distribution de gaz, un chargeur de plaquettes embarqué, un bras de transfert automatisé de plaquettes et un contrôleur. Le four monocouche utilise des tubes à quartz à faible vitesse et à faible expansion pour répondre aux exigences de diffusion des composants et améliorer l'uniformité thermique et la stabilité de la température des plaquettes. Avec une température maximale de travail de 1 100 ° C (2 012 ° F), TEL ALPHA 303IK est bien adapté aux couches diélectriques et métallisées et aux procédés connexes. En outre, la machine dispose d'un outil innovant de stagnation des gaz de l'atmosphère protectrice, qui permet d'assurer un débit et une réponse cohérents, permettant une performance optimale avec une large gamme de gaz. Le chargeur de plaquettes embarqué offre un moyen efficace et automatisé d'alimenter les plaquettes rapidement et de façon fiable. Avec sa grande capacité et ses multiples options de charge, TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K est bien équipé pour gérer une variété de tailles de plaquettes et de substrats. Combiné au bras de transfert automatisé des plaquettes, ALPHA 303IK élimine le besoin de manutention manuelle des plaquettes et améliore les temps de débit. Le modèle est facile à utiliser et à entretenir, avec un contrôleur avec des menus intuitivement conçus et des fenêtres pour une meilleure utilisabilité. Le contrôleur offre des paramètres de contrôle tels que les réglages de rampe et de trempe, les paramètres de fonctionnement du four et les réglages de livraison de gaz. En outre, le contrôleur peut être interfacé avec un PC externe pour permettre la surveillance et l'évaluation à distance des données de processus, assurant la performance et la fiabilité du processus. TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est la solution ultime pour les clients qui ont besoin d'un four de diffusion et d'accessoires efficaces et économiques. Le système comprend un four monocouche, un bras de transfert automatisé de plaquettes, un chargeur de plaquettes embarqué, une unité de stagnation des gaz de l'atmosphère protectrice et un contrôleur intuitif. Entièrement automatisé, convivial et avec des performances fiables, TEL ALPHA 303 I K est le choix idéal pour des procédés de fabrication de semi-conducteurs exigeants.
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