Occasion TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K #9381817 à vendre en France
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ID: 9381817
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2004
Furnace, 12"
MTO
Heater type: VMM-56-002
Gas: Pure N2, SiH4, N2O
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i-K est un four de diffusion et ses accessoires associés conçus pour diverses applications dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et les industries connexes. C'est un outil conçu pour le traitement thermique précis et efficace des substrats. TEL ALPHA 303IK possède une grande chambre de chauffage de 12 pouces de diamètre et 8 pouces de hauteur, permettant de traiter simultanément une grande quantité de substrats. L'équipement est chauffé par des lampes à quartz indirectes pour une plus grande homogénéité sur la longueur d'onde et pour une ergonomie améliorée. La plaque supérieure du four est actionnée par un étage linéaire, permettant un contrôle précis du mouvement et un positionnement précis des plaquettes. La plaque inférieure est actionnée par un étage motorisé à quatre axes pour permettre un réglage précis de la température de la chambre de chauffage. Le système est équipé d'un contrôleur d'automatisation avancé basé sur Lucent Technologies Guardian Ethernet, permettant une opération à distance et manuelle. Le contrôleur dispose également d'une interface utilisateur graphique intuitive qui fournit une surveillance et un contrôle de processus simplifiés. TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K utilise un suscepteur chauffé pour effectuer le traitement à des températures allant jusqu'à 1200 degrés Celsius et dispose d'une fonction auto-inclinaison qui permet le mouvement de rotation tout en maintenant la température uniforme du substrat. Pour faciliter les opérations de refroidissement, le four dispose d'une unité de refroidissement à force d'hélium pour refroidir rapidement la chambre une fois le traitement terminé. De plus, TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 303 I K est équipé d'un vaporiseur liquide alcalin à haute densité pour assurer un dépôt de film uniforme supérieur. Cette machine est également compatible avec divers procédés avancés d'élimination d'oxyde pour des propriétés diélectriques améliorées. L'instrument comprend un outil de dépôt chimique en phase vapeur sous vide qui permet le dépôt de films métalliques aux propriétés uniformes pour un rendement amélioré. Tous ces composants sont emballés avec un logiciel basé sur la commande pour une automatisation facile et l'intégration dans les systèmes clients. Dans l'ensemble, ALPHA 303IK est un outil complet pour le traitement des plaquettes et le dépôt des métaux, idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et d'autres industries liées à l'électronique. Cet actif peut fournir un traitement thermique et chimique précis, efficace et fiable pour des rendements supérieurs.
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